一、产品介绍：

1. 兼容基底尺寸：直径≤100mm

2. 支持基底材料：硅片、玻璃、石英、塑料、金属等                                                                            

3. 纳米压印技术：旋涂胶基底高精度压印&点胶自动找平压印、旋涂胶基底压印、点胶自动找平压印模式

4. 压印精度：优于10nm                                                                                                        

5. 结构深宽比：优于10：1

6. 残余层控制：可小于10nm   微米级TTV控制精度

7. 紫外固化光源：紫外LED（365nm）面光源，光强>300mW/cm2

8. 自动压印/自动脱模/自动工作模具复制/主动找平压印/模自动点胶：支持

9. 模具基底对位系统：手动对位（选配）

10. 上下片方式：手动上下片

二、技术优势：

随机提供全套纳米压印工艺与材料，包括DOE、AR斜齿光栅、高密度、高深宽比结构、微透镜阵列、匀光片结构等工艺流程，帮助客户零门槛达到国际纳米压印水平。