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产品简介：
VTC-16-SM小型高能直流磁控溅射仪是一款桌面式等离子磁控溅射镀膜仪，包含一个2英寸水冷靶头（另有1英寸靶头可选）和可旋转样品台。水冷靶头使镀膜后的样品表面不会因镀膜温度过高而变形，甚至损坏样品；样品台可旋转，可以使样品边旋转边镀膜使镀膜后的样品表面膜后均匀。设备外形小巧，性价比高，是制作各种金属薄膜理想的镀膜设备，可选配各种金属靶材和真空泵搭配设备使用。
VTC-16-SM小型高能直流磁控溅射仪采用PLC控制面板对设备进行控制，操作方便直观。
用直流磁控溅射仪可获得单相Al膜
产品名称 | VTC-16-SM 小型高能直流磁控溅射仪 |
产品型号 | VTC-16-SM |
| 技术参数 | 1、输入电源： 220VAC 50/60Hz 2、溅射电流： 0-150 mA 可调 3、功率：＜2KW 4、输出电压： 1600VDC（ max） 5、溅射腔体 采用石英腔体，尺寸： 166mm OD x 150mm ID x 290mm H 密封： 采用 O 形密封圈密封 6、溅射头&样品台 2 英寸带水冷的磁控溅射头（注意：水冷机不是标配） 另有 1 英寸靶头可选（图一） 一个直径 50mm 不锈钢样品台，样品台可旋转， 旋转速率 0-5 RPM （图五） 安装有一可手动操作的溅射挡板（图二、三） 样品台和靶头之间的距离可以调节，调节范围： 30-80mm （图二、三） 靶头支架，可以在非溅射状态放置溅射靶头（图四） 溅射面积： 4 英寸（ max ）（参考值，详情请点击） 图一 图二 图三 图四 图五 7、控制面板 6"PLC 集成触摸屏控制面板，可控制真空、电流、靶材位置和基片加热温度 8、真空系统 安装有 KF25 真空接口
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对于溅射各种金属靶材，需要摸索理想的溅射参数，下表是本公司实验所设置的参数
产品外型尺寸 L460 mm × W 330 mm × H 520 mm 净重： 20 kg （不包含泵及水冷机） | ||||||||||||||||
可选配件 | 可在本公司选购薄膜测厚仪安装在溅射仪上（见图一） 可选加热样品台，加热温度可达 500℃（见图二、三） 可选浮子流量计来精 确控制进气量（见图四）
图一 图二 图三 图四 | |||||||||||||||
质量认证 | CE 认证 | |||||||||||||||
质保期 | 一年保修，终身技术支持 特别提示： 1.耗材部分如加热元件，石英管，样品坩埚等不包含在内 2.因使用腐蚀性气体和酸性气体造成的损害不在保修范围内 |
注意：产品内部安装有高压元件，禁止私自拆装，带电移动机体。
气瓶上应安装减压阀（设备标配不包括），保证气体的输出压力限制在0.02兆帕以下，以安全使用。溅射头连接到高电压。为了安全，操作者必须在关闭设备前装样和更换靶。
