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产品简介: VTC-16-D小型直流磁控等离子溅射仪靶头尺寸为2英寸, 样品台与溅射头之间的高度在 30-80mm 之间可以调节。安装有一可手动操作的溅射挡板,可进行预溅射。溅射头对样品的溅射时间在1-120s 之间可调,若想获得薄的薄膜,溅射时间可以设置短一点;若想获得厚的薄膜,溅射时间可以长一点。VTC-16-D 小型直流磁控等离子溅射仪设计主要是制作一些金属薄膜,制膜面积可达到4英寸。设备外 形小巧,性价比高,是制作各种金属薄膜理想的镀膜设备,可选配各种金属靶材和真空泵搭配设备使用。
产品名称 | VTC-16-D 小型直流磁控等离子溅射仪 |
产品型号 | VTC-16-D |
主要特点 | 1 、特别为 SEM 样品镀导电性薄膜设计。 2、体积小巧,操作简单,容易上手。 3、拥有小型磁控靶头,可以镀金银铂等金属。 |
| 1、输入电源: 220V AC 50/60Hz 2、功率: 200W 3、输出电压: 500 VDC |
技术参数 | 5、溅射时间: 0-120S 可调 6、溅射腔体 1)采用石英腔体,尺寸: 166 mm OD x 150 mm ID x 150 mm H 2)密封: 采用不锈钢平法兰的 O 形密封圈 7、溅射头&样品台 l)溅射头可安装靶材直径为 2 英寸, 厚度 0.1 - 2.5mm 2)溅射时间 1-120S 可调 3)仪器中安装有直径为 50mm 的不锈钢样品台, 其与溅射头之间距离 30-80mm 可调。 4)可选购加热型样品台,其加热温度可达 500℃ 5)安装有一可手动操作的溅射挡板,可进行预溅射 6)制膜的直径可达:4 英寸(仅供参考,详情请点击)
8、真空系统 l)安装有 KF25 真空接口 2)数字真空压力表(Pa) 3)此系统可通入气体运行 4)< 1.0E-2 Torr (采用机械泵) 5)< 1.0E-5 Torr (采用涡旋分子泵) 9、进气 l)设备上配 1/4 英寸进气口,方便连接气瓶 2)设备前面板上装有一气流调节旋钮,方便调节气流 10、靶材 l)靶材尺寸要求: Φ50mm×(0.1 - 2.5) mm(厚度) 2)设备标配为铜靶 11、产品外型尺寸 L460 mm × W 330 mm × H 540 mm |