钙钛矿镀膜机2

钙钛矿镀膜机2

参考价: 面议

具体成交价以合同协议为准
2024-03-12 09:46:03
322
产品属性
关闭
北京鸿瑞正达科技有限公司

北京鸿瑞正达科技有限公司

高级会员1
收藏

组合推荐相似产品

产品简介

产品简介:钙钛矿镀膜机主要由有机/金属源蒸发沉积室、真空排气系统、真空测量系统、蒸发源、样品加热控温、电控系统、配气系统等部分组成

详细介绍

产品简介:

     钙钛矿镀膜机主要由有机/金属源蒸发沉积室、真空排气系统、真空测量系统、蒸发源、样品加 热控温、电控系统、配气系统等部分组成。适用于制备金属单质薄膜、半导体薄膜、氧化物薄膜、有机薄 膜等,可用于科研单位进行新材料、新工艺薄膜研究工作, 也可用于大批量生产前的试验工作,广泛应用 于有机、无机、钙钛矿薄膜太阳能电池、OLED 等研究领域。

产品型号

钙钛矿镀膜机

主要特点

1、样品位于真空室上方,蒸发源位于真空室下方,向上蒸发镀膜,且蒸发源带有挡板装置。

  2、设有烘烤加热功能,可在镀膜过程中加热样品, 烘烤加热温度为 180℃。

  3、设有断水、断电连锁保护报警装置及防误操作保护报警装置。

技术参数

1、镀膜室:不锈钢材料,采用方形前后开门结构,内带有防污板, 腔室尺寸约为 600mm×450mm×450mm

2、真空排气系统:采用分子泵+机械泵系统

3、真空度:镀膜室极限真空≤6×10-4Pa

4、系统漏率:≤ 1×10-7Pa

5、蒸发源:安装在真空室的下底上; 有机蒸发源 4 个、 容积 5ml 2 台蒸发电源,可测温、控温, 加热温度 400℃, 功率 0.5KW;无机蒸发源 4 套、 容积 5ml 2 台蒸发电源, 加热电流 300A ,功率 3.2KW;蒸发源挡板采用自动磁力控制方式控制其开启

  6、样品架:安装在真空室的上盖上, 可放置 Ø120mm 的样品、载玻片, 旋转速度 0-30rpm

  7、加热温度: RT-180℃,测温、控温

  8、膜厚控制仪:石英晶振膜厚控制仪, 膜厚测量范围 0-999999Å

 
上一篇:磁控溅射镀膜仪的工作原理介绍 下一篇:磁控溅射镀膜机的环保特性与能效提升说明
热线电话 在线询价
提示

请选择您要拨打的电话:

当前客户在线交流已关闭
请电话联系他 :