匀胶旋涂仪的匀胶过程包括滴胶，高速旋转以及干燥(溶剂挥发)几个步骤。
1、滴胶这一步把光刻胶滴注到基片表面上，高速旋转把光刻胶铺展到基片上形成簿层，干燥这一步除去胶层中多余的溶剂。
2、匀胶转速是匀胶过程中重要的因素。基片的转速不仅影响到作用于光刻胶的离心力，而且还关系到紧挨着基片表面空气的*湍动和基片与空气的相对运动速度。膜厚在很大程度上是作用于液体光刻胶上﹑方向朝基片边缘的剪刀力与影响光刻胶粘度的干燥（溶剂挥发）速率之间平衡的结果。随着光刻胶中溶剂不断挥发，粘度越来越大，直到基片旋转作用于光刻胶的离心力不再能使光刻胶在基片表面移动。到这个点上，胶膜厚度不会随匀胶时间延长而变薄。
3、匀胶过程中基片的加速度也会对胶膜的性能产生影响。因为在基片旋转的第一阶段，光刻胶就开始干燥（溶剂挥发）了。所以准确控制加速度很重要。
4、匀胶过程中光刻胶的干燥速度不仅取决于光刻胶的自身性质，而且还取决于匀胶过程中基片周围的空气状况。光刻胶的干燥速度与此相似，也受周围环境条件的影响。匀胶的时候，减小基片上面的空气的流动，以及因空气流动引起的湍流，或者至少保持稳定也是十分重要的。
本公司提供的CIF匀胶旋涂仪有多重安全保护。电磁安全开关，盖子打开卡盘停止，保证安全；盖子自锁功能，防止飞片盖弹开伤人；双重安全上盖，聚四氟嵌镶钢化玻璃，避免单一玻璃或者亚克力上盖飞片伤人，*大限度保证实验人员安全。
