光学膜厚仪的薄膜光谱反射系统，可以很简单快速地获得薄膜的厚度及nk，采用r-θ极坐标移动平台，可以在几秒钟的时间内快速的定位所需测试的点并测试厚度，可随意选择一种或极坐标形、或方形、或线性的图形模式，也可以编辑自己需要的测试点。针对不同的晶圆尺寸，盒对盒系统可以很容易的自动转换，匹配当前盒子的尺寸。49点的分布图测量只需耗时约45秒。用激光粒度分布仪测试胶体的粒度分布时应配合其它检测手段验证测试结果的准确性，同时应使用去离子水作为分散介质，防止自来水中的电解质造成颗粒团聚影响测试结果。适用于已知折射率的单一物质粒度分布测试，因此测试前要知道被测样品的折射率，折射率选取的不同会对测试结果造成一定的影响。
光学膜厚仪的主要特点：基片折射率和消光系数测量；薄膜厚度测量，平均值和标准偏差分析；薄膜折射率和消光系数测量;适用于不用材质和厚度的薄膜、涂层和基片；测试数据输出和加载；直接Patterned或特征机构的试样测试；可用于实时在线薄膜厚度、折射率监测；波长范围可选；系统配备强大的光学常数库和材料数据库，便于测试和数据分析。
光学膜厚仪广泛应用于各种薄膜，并且还有半导体液晶显示器等一系列的材料和产品的测量。一般的产品我们可以拿尺来进行测量，对精度要求也不高。但是对薄膜等产品来说，精度是关系到产品的组装和性能的，所以一定要测量。测量仪不仅能够准确的进行测量，还能及时的显示出数据。
其次可以计算薄膜厚度，一般采用光干涉法，薄膜表面或界面的反射光会与从基底的反射光相干涉，干涉的发生与膜厚及折光系数等有关，因此可通过计算得到薄膜的厚度。光干涉法是一种无损、快速的光学薄膜厚度测量技术，我们的薄膜测量系统采用光干涉原理测量薄膜厚度。
再次，就是操作方便，效率较高。这种优势对于薄膜测试的时候是非常重要的，毕竟薄膜测试是一种比较枯燥的工作，如果测试又比较繁杂的话，会使人心情焦躁，难免会影响测试时间和测试结果。而操作方便，容易上手，几秒钟内即可完成测量和数据分析，发展潜力巨大。
