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FR-Scanner Thetametrisis自动化光学膜厚仪
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代理商岱美仪器技术服务(上海)有限公司(Dymek Company Ltd ,下面简称岱美)成立于1989年,是一间拥有多年经验的高科技设备分销商,主要为数据存储、半导体、光通讯、高校及研发中心提供各类测量设备、工序设备以及相应的技术支持,并与一些重要的客户建立了长期合作的关系。自1989年创立至今,岱美的产品以及各类服务、解决方案广泛地运用于中国香港,中国大陆(上海、东莞、北京),中国台湾,泰国,菲律宾,马来西亚,越南及新加坡等地区。
岱美在中国大陆地区主要销售或提供技术支持的产品:
晶圆键合机、纳米压印设备、紫外光刻机、涂胶显影机、硅片清洗机、超薄晶圆处理设备、光学三维轮廓仪、硅穿孔TSV量测、非接触式光学三坐标测量仪、薄膜厚度检测仪、主动及被动式防震台系统、应力检测仪、电容式位移传感器、定心仪等。
岱美重要合作伙伴包括有:
Thetametrisis, EVG, FSM, Opto-Alignment, Herz, PLSINTEC, Film Sense, Reditech, Lazin, Delcom, Microsense, Shb, boffotto, RTEC, Kosaka, Nanotronics, MTInc, 4D, Daeil, Microphysics,
n&k Technology, First Nano, Schmitt, LESCO, Otsuka, STI, Kurashiki, Ryokosha, SURAGUS, Westbond...
如有需要,请联系我们,了解我们如何开始与您之间的合作,实现您的企业或者组织机构长期发展的目标。
光学厚度测量仪是一种利用光学原理对物体厚度进行测量的设备。它可以非接触地、精确地测量各种透明、半透明和不透明材料的厚度,常见于光学、电子、玻璃、塑料、薄膜、涂层等行业。
光学厚度测量仪的主要特点包括:
1、非接触测量:使用光学原理进行测量,不需要接触被测物体,避免了可能对被测物体造成的损伤。
2、测量精度高:由于采用了先进的光学技术和测量算法,能够达到高的测量精度。
3、测量范围广:可以测量从纳米级到毫米级的各种厚度。
4、操作简便:大部分光学厚度测量仪都配备了易于操作的用户界面,方便用户设定参数和进行测量。
5、适用材料广泛:可以测量各种透明、半透明和不透明的材料,包括光纤、玻璃、塑料、薄膜、涂层等。
Thetametrisis自动化光学膜厚仪 FR-Scanner光学厚度测量仪是一种紧凑的台式工具,适用于自动测绘晶圆片上的涂层厚度。FR-Scanner 可以快 速和准确测量薄膜特性:厚度,折射率,均匀性,颜色等。真空吸盘可应用于任何直径或其他形状的样片。
应用:
1、半导体生产制造:(光刻胶, 电介质,光子多层结构, poly-Si, Si, DLC, )
2、光伏产业
3、液晶显示
4、光学薄膜
5、聚合物
6、微机电系统和微光机电系统
7、基底:透明 (玻璃, 石英, 等等) 和半透明
Thetametrisis膜厚仪*的光学模块可容纳所有光学部件:分光计、复合光源(寿命10000小时)、高精度反射探头。因此,在准确性、重现性和长期稳定性方面保证了优异的性能。
Thetametrisis膜厚仪 FR-Scanner 通过高速旋转平台和光学探头直线移动扫描晶圆片(极坐标扫描)。通过这种方法,可以在很短的时间内记录具有高重复性的反射率数据,这使得FR-Scanner 成为测绘晶圆涂层或其他基片涂层的理想工具。
测量 8” 样片 625 点数据 < 60 秒
Thetametrisis光学厚度测量仪特征:
1、单点分析(不需要预估值)
2、动态测量
3、包括光学参数(n和k,颜色) o 为演示保存视频
4、600 多种的预存材料
5、离线分析
6、免费软件更新
FR-Scanner自动化超高速薄膜厚度测量仪性能参数:
样品尺寸 | 晶圆: 2 英寸-3 英寸-4 英寸-6 英寸-8 英寸-300mm1 |
角度与线性分辨率 | 5μm/0.1o |
光斑 | 350μm |
光谱范围 | 370-1020nm |
光谱规格 | 3648pixels/16bit |
光源MTBF | 10000h |
厚度范围 2 | 12nm-90μm |
精度 3 | 0.02nm |
稳定性 4 | 0.05nm |
准确度 5 | 1nm |
折射率测量蕞小厚度 6 | 100nm |
扫描速度 7 | 625meas/min |
通讯接口 | USB 2.0 / USB 3.0. |
产品尺寸(mm) | 485W x 457L x 500H |
电源要求 | 110V/230V, 50-60Hz, 300W |
外观 | 防静电喷涂钢板和 304 不锈钢面板 |
重量 | 40Kg |
测量原理:
白光反射光谱(WLRS)是测量从单层薄膜或多层堆叠结构的一个波长范围内光的反射量,入射光垂直于样品表面,由于界面干涉产生的反射光谱被用来计算确定(透明或部分透明或*反射基板上)的薄膜的厚度、光学常数(n和k)等。
1、样片平台可容纳任意形状的样品。450mm平台也可根据要求提供。真正的X-Y扫描也可能通过定制配置。
2、硅基板上的单层SiO2薄膜的厚度值。对于其他薄膜/基质,这些值可能略有不同。
3、15天平均值的标准差平均值。样品:硅晶片上1微米的二氧化硅
4、2*超过15天的日平均值的标准偏差。样品:硅晶片上1微米的二氧化硅
5、测量结果与校准的光谱椭偏仪比较
6、根据材料
7、测量以8 "晶圆为基准。如有特殊要求,扫描速度可超过1000measurement /min
如果您想要了解更多关于Thetametrisis膜厚仪的产品信息,请联系我们岱美仪器。