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RCA清洗机中的RCA分别代表SPM（硫酸/过氧化氢混合物）、APM（氨水/过氧化氢混合物）、DHF（稀释的氢氟酸）和HPM（盐酸/过氧化氢混合物）。以下是具体介绍：

SPM（硫酸/过氧化氢混合物）

组成成分：SPM是由硫酸（H2SO4）、过氧化氢（H2O2）和水（H2O）组成的混合物，其中硫酸与过氧化氢的体积比通常为1:3。

主要作用：SPM具有很高的氧化能力，可以将金属氧化后溶解于清洗液中，并能把有机物氧化生成二氧化碳和水。用SPM清洗硅片可以去除硅片表面的重有机沾污和部分金属，但当有机物沾污特别严重时会使有机物碳化而难以去除。

APM（氨水/过氧化氢混合物）

组成成分：APM又称SC-1试剂，由氨水（NH4OH）、过氧化氢（H2O2）和水（H2O）组成，三者的比例通常在1:1:5到1:2:7之间。

主要作用：APM主要用于碱性氧化，去除硅片上的颗粒，并可氧化及去除表面少量的有机物和Au、Ag、Cu、Ni、Cd、Zn、Ca、Cr等金属原子污染。在清洗过程中，由于H2O2的作用，硅片表面会形成一层自然氧化膜（SiO2），呈亲水性，使得硅片表面和粒子之间可被清洗液浸透，从而达到去除粒子的目的。

DHF（稀释的氢氟酸）

组成成分：DHF是氢氟酸（HF）或稀氢氟酸的溶液，HF与水的体积比通常为1:（2~10）。

主要作用：DHF利用氢氟酸能够溶解二氧化硅的特性，去除在上步清洗过程中生成的硅片表面氧化层，同时将吸附在氧化层上的微粒及金属去除。此外，DHF还能在去除氧化层的同时在硅晶圆表面形成硅氢键，使硅表面呈疏水性。

HPM（盐酸/过氧化氢混合物）

组成成分：HPM又称SC-2试剂，由盐酸（HCl）、过氧化氢（H2O2）和水（H2O）组成，三种物质的比例从1:1:6到1:2:8不等。

主要作用：HPM的主要作用是酸性氧化，能溶解多种不被氨络合的金属离子，以及不溶解于氨水但可溶解在盐酸中的Al(OH)3、Fe(OH)3、Mg(OH)2和Zn(OH)2等物质。因此，HPM对Al3+、Fe3+、Mg2+、Zn2+等离子的去除有较好效果。