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NIE-3500（M）IBE离子束刻蚀
该企业相似产品
ALD，PECVD，RIE，磁控溅射，热蒸镀，电子束，离子束，晶圆清洗机，PA-MOCVD，飞行时间二次离子质谱仪（TOF-SIMS）
那诺中国有限公司专注于为大中华区域（包括中国大陆、香港、澳门和中国台湾）的高校、科研院所、企业研发与生产等企业机构提供高性能、高性价比、定制化的薄膜工艺加工设备及科学分析检测仪器。
那诺中国提供美国那诺-马斯特薄膜工艺加工设备（包含磁控溅射、热蒸镀、电子束、PECVD、ALD、PA-MOCVD、RIE、离子束、DRIE、晶圆兆声清洗机等）。
那诺中国提供英国KORE基于飞行时间的质谱仪，包含飞行时间二次离子质谱仪（TOF-SIMS）、质子转移反应（PTR）质谱仪、电子轰击电离（EI）质谱仪等。
详细信息
IBE离子束刻蚀
NIE-3500（M）IBE离子束刻蚀产品概述：该系统为计算机全自动实现工艺控制的紧凑型独立的立柜式离子束刻蚀系统，具有结构紧凑、功能强大、自动化程度高、模块化设计易于维护、低成本的优势。所有核心组件均为。
NIE-3500（M）IBE离子束刻蚀产品特点：
- 低成本
- 离子束：高达2KV/10mA
- 离子电流密度100-360uA/cm2
- 离子束直径：4",5",6"
- 兼容反应及非反应气体(Ar, O2, CF4,Cl2)
- 极限真空5x10-7Torr
- 260l/s涡轮分子泵，串接500 l/min干泵
- 14"不锈钢或铝质腔体
- 水冷旋转/倾斜样品台(NIE-3500)
- 自动上下载片（NIE-3500）
- 基于LabView软件的PC计算机全自动控制
- 占地面积30"x30"
产品应用：
- 表面清洗
- 表面处理
- 离子铣
- 带活性气体的离子束刻蚀
- 光栅刻蚀
- SiO2，Si和金属的深槽刻蚀
