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NIE-3000IBE离子束刻蚀
该企业相似产品
ALD，PECVD，RIE，磁控溅射，热蒸镀，电子束，离子束，晶圆清洗机，PA-MOCVD，飞行时间二次离子质谱仪（TOF-SIMS）
那诺中国有限公司专注于为大中华区域（包括中国大陆、香港、澳门和中国台湾）的高校、科研院所、企业研发与生产等企业机构提供高性能、高性价比、定制化的薄膜工艺加工设备及科学分析检测仪器。
那诺中国提供美国那诺-马斯特薄膜工艺加工设备（包含磁控溅射、热蒸镀、电子束、PECVD、ALD、PA-MOCVD、RIE、离子束、DRIE、晶圆兆声清洗机等）。
那诺中国提供英国KORE基于飞行时间的质谱仪，包含飞行时间二次离子质谱仪（TOF-SIMS）、质子转移反应（PTR）质谱仪、电子轰击电离（EI）质谱仪等。
详细信息
IBE离子束刻蚀
NIE-3000IBE离子束刻蚀产品概述：该系统为手动放片取片，但通过计算机全自动实现工艺控制的台式离子束刻蚀系统，系统具有结构紧凑、功能强大、自动化程度高、模块化设计易于维护、低成本的优势。该系统所配套的所有核心组件均为。
NIE-3000IBE离子束刻蚀产品特点：
- 低成本
- 离子束：高达2KV/10mA
- 离子电流密度100-360uA/cm2
- 离子束直径：4",5",6"
- 兼容反应及非反应气体(Ar, O2, CF4,Cl2)
- 极限真空5x10-7Torr
- 260l/s涡轮分子泵，串接500 l/min干泵
- 14"不锈钢或铝质腔体
- 水冷旋转/倾斜样品台(NIE-3500)
- 自动上下载片（NIE-3500）
- 基于LabView软件的PC计算机全自动控制
- 占地面积30"x30"
产品应用：
- 表面处理
- 离子铣
- 表面清洗
- 带活性气体的离子束刻蚀： 光栅刻蚀，以及SiO2，Si和金属的深槽刻蚀
