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NSC-3500（M）磁控溅射系统
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ALD，PECVD，RIE，磁控溅射，热蒸镀，电子束，离子束，晶圆清洗机，PA-MOCVD，飞行时间二次离子质谱仪（TOF-SIMS）
那诺中国有限公司专注于为大中华区域（包括中国大陆、香港、澳门和中国台湾）的高校、科研院所、企业研发与生产等企业机构提供高性能、高性价比、定制化的薄膜工艺加工设备及科学分析检测仪器。
那诺中国提供美国那诺-马斯特薄膜工艺加工设备（包含磁控溅射、热蒸镀、电子束、PECVD、ALD、PA-MOCVD、RIE、离子束、DRIE、晶圆兆声清洗机等）。
那诺中国提供英国KORE基于飞行时间的质谱仪，包含飞行时间二次离子质谱仪（TOF-SIMS）、质子转移反应（PTR）质谱仪、电子轰击电离（EI）质谱仪等。
详细信息
磁控溅射技术
NSC-3500（M）磁控溅射系统概述：带有水冷或者加热(可加热到700度)功能，可达8"旋转平台，支持到4个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵，极限真空可达10-7 Torr，15分钟内可以达到10-6 Torr的真空。通过调整磁控管与基片之间的距离，可以获得想要的均匀度和沉积速度。
NSC-3500带有10”派热克钟罩腔体或者13"铝质腔体，3个2”的磁控管，DC直流和RF射频电源。 在选配方面，我们提供不锈钢腔体，350 l/s涡轮分子泵，额外的磁控管和衬底加热功能。
NSC-3500（M）磁控溅射系统产品特点：
- 不锈钢，铝质腔体或钟罩式耐热玻璃
- 260或500 l/s的涡轮分子泵，串接机械泵或干泵
- 13.56MHz，300-600W RF射频电源以及1KW DC直流电源
- 晶振夹具具有的<1 ?的厚度分辨率
- 带观察视窗的腔门易于上下载片
- 基于LabView软件的PC计算机控制
- 带密码保护功能的多级访问控制
- *的安全联锁功能
选配项：
- 不锈钢腔体
- 热蒸镀能力
- RF、DC溅射
- RF或DC偏压（1000V）
- 样品台可加热到700°C
- 膜厚监测仪
- 基片的RF射频等离子清洗
- 预真空锁以及自动晶圆片上/下载片
应用：
- 晶圆片、陶瓷片、玻璃白片以及磁头等的金属以及介质涂覆
- 光学以及ITO涂覆
- 带高温样品台和脉冲DC电源的硬涂覆
- 带RF射频等离子放电的反应溅射
