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NSC-4000（M） 磁控溅射系统
- 型号
- NSC-4000（M）
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那诺中国有限公司专注于为大中华区域（包括中国大陆、香港、澳门和中国台湾）的高校、科研院所、企业研发与生产等企业机构提供高性能、高性价比、定制化的薄膜工艺加工设备及科学分析检测仪器。
那诺中国提供美国那诺-马斯特薄膜工艺加工设备（包含磁控溅射、热蒸镀、电子束、PECVD、ALD、PA-MOCVD、RIE、离子束、DRIE、晶圆兆声清洗机等）。
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详细信息
磁控溅射技术
NSC-4000（M）磁控溅射系统概述：带有水冷或者加热(可加热到700度)功能，可达8"旋转平台，可支持4个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵，极限真空可达10-7 Torr，15分钟内可以达到10-6 Torr的真空。通过调整磁控管与基片之间的距离，可以获得想要的均匀度和沉积速度。
NSC-4000带有13”铝质腔体，4个2”的磁控管，DC直流和RF射频电源。 在选配方面，我们提供不锈钢腔体，500 l/s涡轮分子泵，额外的磁控管和衬底加热功能。
NSC-4000（M）磁控溅射系统产品特点：
不锈钢，铝质腔体
260或500 l/s的涡轮分子泵，串接机械泵或干泵
13.56MHz，300-600W RF射频电源以及1KW DC直流电源
晶振夹具具有的<1 Å的厚度分辨率
带观察视窗的腔门易于上下载片
基于LabView软件的PC计算机控制
带密码保护功能的多级访问控制
*的安全联锁功能
NSC-4000（M）选配项：
不锈钢腔体
热蒸镀能力
RF、DC溅射
RF或DC偏压（1000V）
样品台可加热到700°C
膜厚监测仪
基片的RF射频等离子清洗
预真空锁以及自动晶圆片上/下载片
NSC-4000（M）应用：
晶圆片、陶瓷片、玻璃白片以及磁头等的金属以及介质涂覆
光学以及ITO涂覆
带高温样品台和脉冲DC电源的硬涂覆
带RF射频等离子放电的反应溅射
