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NX-B100 Nanonex纳米压印光刻机

型号
NX-B100
上海科布信息技术有限公司

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光刻机,匀胶机,等离子清洗机,紫外臭氧清洗机,压片机

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详细信息

请选择合适的型号Nanonex纳米压印光刻机

NX-B100多功能整片基板纳米压印系统(热压印)

Nanonex纳米压印光刻机

zui大75毫米直径压印面积  热压印

加热速度>200/分钟 制冷速度>60/分钟

NX-B200多功能整片基板纳米压印系统(热压印和紫外压印)

zui大75毫米直径压印面积  热压印和紫外压印

加热速度>200/分钟 制冷速度>60/分钟

58mW/cm2紫外LED光源;365纳米或395纳米波长可选;全自动化控制

NX-1000多功能整片基板纳米压印系统(热压印)

标配4英寸,68英寸压印面积可选  热压印 加热速度>300/分钟 制冷速度>150/分钟

NX-2000多功能整片基板纳米压印系统(热压印和紫外压印)

标配4英寸,68英寸压印面积可选  热压印和紫外压印

加热速度>300/分钟 制冷速度>150/分钟

200W窄带紫外光源;365纳米或395纳米波长可选;全自动化控制

NX-2500

多功能整片基板带对准功能多层次的纳米压印系统

标配4英寸,68英寸压印面积可选

热压印和紫外压印

加热速度>300/分钟 制冷速度>150/分钟

200W窄带紫外光源;365纳米或395纳米波长可选;全自动化控制

带对准功能(亚1微米对准精度) 多层次的纳米压印

对准模块 <1μm 3σ对准准确率 X, Y, Z, Theta平台

分场光学和CCD相机

NX-2600

多功能整片基板带对准功能多层次的纳米压印和高分辨率光刻系统

可选背面对准

标配4英寸,68英寸压印面积可选

热压印和紫外压印

加热速度>300/分钟 制冷速度>150/分钟

200W窄带紫外光源;365纳米或395纳米波长可选;全自动化控制

带对准功能(亚1微米对准精度) 多层次的纳米压印

对准模块 <1μm 3σ对准准确率 X, Y, Z, Theta平台

分场光学和CCD相机

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产品相关关键字: 纳米压印光刻机 NIL光刻机 软紫外纳米压印 热压印 步进闪光压印

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