- 面议
参考价：
起订量：
PL600 NIL纳米压印机
- 型号
- PL600
- 参数
- 应用领域:电子
匀胶机，光刻机，显影机，等离子清洗机，紫外臭氧清洗机，紫外固化箱，压片机，等离子去胶机，刻蚀机，加热板
半导体化工领域专业实验设备供应商：迈可诺是一家富有创新精神的高科技公司，专业提供光电半导体化工实验室所需设备耗材的全套解决方案提供商，迈可诺从事开发、设计、生产并营销质量可靠的、安全易用的技术产品及优质专业的服务，帮助我们的客户和合作伙伴取得成功。我们成功的基础是帮助客户做出更好的选择和决定，尊重他们的决定，并协助他们实现高效率的科研成果，追求丰富有意义的生活。
详细信息
特点：
▪ 全晶圆压印 - PL600适用于6英寸晶圆处理, PL400适用于4英寸晶圆处理
▪ 低于10纳米分辨率，产率高达99％
▪ 一步自动释放功能，可防止分离过程中模具/基材损坏，使压印产量增大
▪ 支持各种类型的硬模和软模
▪ 可变模具和基材尺寸，灵活方便
▪ 可编程PLC，通过自定义参数进行过程控制，带触摸屏用户界面
▪ 对准功能选项
▪ 多种工艺，适用于各种应用光学器件，显示器，数据存储，生物医学器件，半导体IC，化学合成和*材料等
▪ 专有的紫外线固化纳米压印抗蚀剂对硬度或厚度没有限制，并且与传统的光刻工艺兼容
PL600
基材尺寸，6“标准（尺寸较小，形状不规则）
印记区： 与晶圆尺寸相同。
模板尺寸 6”,4” ,2” and 1”
压印压力: 1 psi标准
模具/基材自动释放: 包括 - 不需要特殊工具
紫外线曝光时间:在95％强度水平下2-3分钟
对准功能: x，y，z和theta（精度2um）
