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CNI v3.0 PV CNI v3.0PV桌面纳米压印机
半导体化工领域专业实验设备供应商:迈可诺是一家富有创新精神的高科技公司,专业提供光电半导体化工实验室所需设备耗材的全套解决方案提供商,迈可诺从事开发、设计、生产并营销质量可靠的、安全易用的技术产品及优质专业的服务,帮助我们的客户和合作伙伴取得成功。我们成功的基础是帮助客户做出更好的选择和决定,尊重他们的决定,并协助他们实现高效率的科研成果,追求丰富有意义的生活。
CNI v3.0 PV是用于纳米压印和热压印的小型桌面工具,可完成微米和纳米结构从模板复制到基质。
CNI v3.0 PV纳米压印机可以执行热压印以及紫外压印,CNI纳米压印机是纳米复制的完美起点,同时也支持成熟和高级的开发工作,纳米压印机操作简单,坚固耐用,便于非标准流程和新实验。
易于安装 即插即用(不到20分钟的时间内就可运行工作)
优势 凭借其热压印和紫外压印的功能,如果需要,在真空中,CNI v3.0 PV纳米压印机在其产品中是非常好的,并支持许多不同的技术和工艺。
使用方便 无需查看使用手册,每个人都能使用;
紧凑尺寸 26*30*14cm(120mm腔室的尺寸);
42*44*14cm(210mm腔室的尺寸);
安装 CNI结构紧凑,无需固定安装;
高质量压印 能够将小于40nm的结构复制到大于100µm的结构;
多功能 可使用任何尺寸的印章和模板,直径大210mm(8英寸)圆形的模板;
技术支持 提供个性化支持,专注于您的加工需求;
特征:桌面大小的纳米压印工具
热压印温度高达250℃
紫外纳米压印,365nm曝光(or 405nm–自定义选项)
压印压力从0.3到11bar
在真空压印1mbar
印章和基材尺寸:直径可达210mm
印章和基材没有固定的样式
坚固且易于使用
手动装卸印章和模板
自动程控
软件操作界面简单
可记录所有步骤和流程
CNI V3.0支持许多不同的技术:
热纳米压印
UV纳米压印
热压印
微米结构压印
聚合物粘合
举例:
纳米结构压印
微结构压印
硅片上纳米间距的光栅压印
在软性的基材上压印(如III-V材料,InP)
印章生产
高纵横比结构的热压印
聚合物热压印
热聚合物粘合
要求:
现场安装的技术要求
压缩干燥空气或氮气压力6-11bar,外径6mm连接器,流量至少应该1/2标准L/min;
在10mm外径连接器中,真空度优于0.1mbar(如果有真空选项);
功率:110-240V (50-60HZ, 大于200W);
环境
应安装在干净、无尘和无颗粒的环境,以达到Z佳效果;
工作温度范围10-35℃;
工作湿度范围30-70%;
其他
增压器:如果你的实验室不能提供高于6 bar的压缩空气压力,NILT可以提供一个增压器,可以将3-5 bar加到6-10 bar;
真空泵选项:NILT建议使用Edwards nXDS6i干式涡旋真空泵。任何其他相似或更好规格的泵也可正常工作;
规格:
压力:0.3-11bar
温度:高达200℃,精度+/-1℃,可选高温模块,适用于250℃
紫外线曝光:在120mm腔室中,波长为365mm或405 nm的紫外线LED灯,光功率为12 W,在210 mm腔室中为~100mW/cm2或~165mW/cm2的光功率为57W
真空:可将腔室抽真空至低于1mbar的压力
腔室尺寸:- 直径120毫米,高度20毫米(大可扩展到45毫米)
- 直径为210毫米,高度大为20毫米(无法扩展)
自动复制过程:手动装载印章和基材;通过CNI软件控制,整个复制过程*自动化软件:全程控制和灵活性 除了装载和卸载之外的所有东西都由软件处理
CNI定制: 可根据您的需求定制
在线视频说明:在线安装视频和操作提示
可选项: 增压器可将实验室压缩空气供应从3-5bar提升至6-10bar,由NLT人员进行培训和/或安装