- 面议
起订量：
L2002 Ossila紫外臭氧清洗机
- 型号
- L2002
该企业相似产品
企业历程 :
◆ 2006 年，在美国加州洛杉矶注册成立赛福国际集团有限公司（CIF International Group Co.,Ltd）。成立之初是一 家面向大学科研院所销售仪器设备的供应商。
◆ 2008 年， 自主研发生产石墨电热板以来， 先后研发生产酸蒸逆流清洗器、酸纯化器、智能消解仪等理化实验仪器设备， 从此走上研发生产专业化道路。
◆ 2010 年，掌握了等离子核心技术，自主研发生产科研型等离子清洗机系列产品。
◆ 2014 年， 在中国注册成立华仪行（北京） 科技有限公司， 正式进入中国市场， 部分仪器设备研发、制造业务移至中国。
◆ 2015 年，自主研发生产专为处理粉体样品而设计转瓶等离子清洗机。
◆ 2017 年，自主研发生产紫外臭氧清洗机系列产品。
◆ 2018 年，在中国成注册立赛福仪器承德有限公司，将研发制造业务全部移至中国。
◆ 2019 年，电镜专用远程等离子清洗机研发成功。
◆ 2021 年，自主研发生产中试、生产型等离子清洗系列产品，完善了等离子产品线。
◆ 2023 年，科研型等离子去胶机、RIE 蚀刻机研发成功。
公司专注材料表面处理技术：
◆ 改性（等离子清洗机、紫外臭氧清洗机） ◆ 去胶（等离子去胶机）
◆ 蚀刻（等离子刻蚀机） ◆ 涂层（等离子溅射镀膜机、匀胶机、烤胶机）
企业愿景：
致力于为全球用户提供专业的表面处理整体解决方案。
企业使命：
CIF与我们的员工、客户乃至商业伙伴在内的所有人，同呼吸，共命运，共同成长，共同发展，共同成就梦想！
详细信息
紫外臭氧清洗机（UVO）
目前紫外臭氧清洗机的主要应用表面UV光清洗和表面UV光改质。
v 表面UV光清洗：利用紫外光以及由其产生的臭氧OZONE，对有机物质所起的光敏氧化分解作用，以达到去除粘附在物体表面上的有机化合物（碳氢化合物），获得超洁净的表面。
v 表面UV光改质：利用紫外光照射有机表面，在将有机物分解的同时，254nm波长的紫外光被物体表面吸收后，将表层的化学结构切断，光子作用产生原子氧会与被切断的表层分子结合，并将之变换成具有高度亲水性的官能基（如-OH，-CHO，-COOH），从而提高表面的浸润性。
主要应用：
石英/玻璃制品的表面清洗：液晶面板,等离子电视屏幕,彩色过滤片,光罩,棱镜,透镜,反射镜,平板电视等。
微电子产品的表面清洗：微型马达轴,磁头驱动架,光盘,光电器件,手机摄像头,微型喇叭/受话器震膜,半导体硅片,掩膜版。
精密集成电路的表面清洗：液晶显示器ITO,精密电路板,软性电路板接头,BGA基板的清洗,COG的清洗,COF(ILB)接合面的清洗,薄膜基板的清洗,金属基板的清洗,BGA基板与粘结垫的清洗。
在胶粘接或是印刷之前，对高分子聚合制品的表面改性：橡胶粘接，塑料汽车部件，透镜保护膜,塑料薄膜,树脂成型空气袋,IC包装,注射針接合部份的表面性,介入导管的表面改型等。
科研过程的表面清洗及处理：半导体，生物芯片，纳米材料，聚合物，光化学等。
产品特点
成本低；
120x120mm样品台；
大处理样品高14mm；
抽屉式样品台，简单方便；
样品台自动安全开关,打开UV自动关闭，防止对人身伤害；
UVO显示器
LCD屏显示“已用时间”和“剩余时间”；
60分钟定时器；
高强度UV灯源；可控温的样品台；
样品清洗无需溶剂；
超净表面。
UVO样品托盘
二、技术参数
紫外灯类型 | 低压石英水银蒸汽灯 |
紫外线灯的主要波长 | 185nm和254nm |
UV灯管尺寸 | 100x100mm |
UV灯电源 | 4000V,30mA |
UV灯寿命 | 每天使用可用8-10年 |
适用电压 | 230V,0.6A,50Hz//opt.(110V,1.2A,60Hz) |
大运行时间 | 59分59秒 |
安全特点 | 安全联锁，高温报警，高温断电； |
托盘尺寸 | 120x120mm |
大样品尺寸 | 100x100mm |
总尺寸 | 长204mm、高227mm、宽300mm |
在紫外线臭氧清洗前水滴在OTS-treated硅基质上(300nm二氧化硅表面)(左)紫外臭氧清洗10分钟后(右)。
