起订量：
L2001 匀胶旋涂仪
- 型号
- L2001
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企业历程 :
◆ 2006 年，在美国加州洛杉矶注册成立赛福国际集团有限公司（CIF International Group Co.,Ltd）。成立之初是一 家面向大学科研院所销售仪器设备的供应商。
◆ 2008 年， 自主研发生产石墨电热板以来， 先后研发生产酸蒸逆流清洗器、酸纯化器、智能消解仪等理化实验仪器设备， 从此走上研发生产专业化道路。
◆ 2010 年，掌握了等离子核心技术，自主研发生产科研型等离子清洗机系列产品。
◆ 2014 年， 在中国注册成立华仪行（北京） 科技有限公司， 正式进入中国市场， 部分仪器设备研发、制造业务移至中国。
◆ 2015 年，自主研发生产专为处理粉体样品而设计转瓶等离子清洗机。
◆ 2017 年，自主研发生产紫外臭氧清洗机系列产品。
◆ 2018 年，在中国成注册立赛福仪器承德有限公司，将研发制造业务全部移至中国。
◆ 2019 年，电镜专用远程等离子清洗机研发成功。
◆ 2021 年，自主研发生产中试、生产型等离子清洗系列产品，完善了等离子产品线。
◆ 2023 年，科研型等离子去胶机、RIE 蚀刻机研发成功。
公司专注材料表面处理技术：
◆ 改性（等离子清洗机、紫外臭氧清洗机） ◆ 去胶（等离子去胶机）
◆ 蚀刻（等离子刻蚀机） ◆ 涂层（等离子溅射镀膜机、匀胶机、烤胶机）
企业愿景：
致力于为全球用户提供专业的表面处理整体解决方案。
企业使命：
CIF与我们的员工、客户乃至商业伙伴在内的所有人，同呼吸，共命运，共同成长，共同发展，共同成就梦想！
详细信息
英国Ossila公司匀胶旋涂仪，操作简单，方便实用，旋涂均匀，结构小巧紧凑，为实验室提供了理想的解决方案，其采用创新设计的非真空卡盘式旋涂吸盘，无需真空泵或充氮气，就能达到很好的旋涂效果。匀胶旋涂仪可对大小不同规格的基材都可进行旋涂，尤其是对超薄样品，即使基片厚度0.7毫米、0.55毫米、0.2毫米或更薄时同样能达到旋涂效果。不会出现真空吸盘旋涂较薄的基材衬底翘曲现象，影响涂层的均匀性。匀胶旋涂仪广泛应用于微电子、半导体、制版、新能源、生物材料、光学及表面涂覆等工艺。
Ossila匀胶旋涂仪控制和显示：
1.非常方便设定处理速度和加速度程序段；可设置顺序循环控制；
2.显示精度控制在设定值的0.006%以内
3.操作者可随时随地自由实现人机交互；
设备运转进程中，可随意向前，向后或者往返跳跃操作步骤；
循环指令，并可以重复操作；
在运转模式下也可以实时改变速度和加速度；
包含PC程序端接口；
可视化操作模型（化学试剂，传感器所见即所得的操作界面）；
故障报警装置（可形象显明故障发生位置）。
匀胶旋涂仪技术性能
- 可在手套箱和通风厨内使用，基座面积仅为22.5x17cm。
- 无需真空泵、充氮气，节省保养维护费用。
- 创新设计非真空卡盘式吸盘，基材只需放置在卡盘式旋涂托盘适当位置，无需抽真空，就能达到旋涂效果。
- 耐酸碱防腐蚀FEP覆膜操作界面，坚固的不锈钢外壳，钢化的玻璃盖和耐酸碱防腐蚀的衬垫和聚丙烯材质旋涂托盘，使得在各种苛刻条件下仍能保证仪器正常运行。
- 匀胶旋涂仪采用液晶显示+按键操作控制界面。智能程序化控制，10个用户自定义协议，每个协议下可设置10个程序，每个程序多50个步骤。
- 内置水平校准装置，大限度的保证旋涂均匀，可对大小不同规格的基片进行旋涂。
- 电磁安全开关，盖子打开卡盘停止，保证运行安全。
- 转速稳定性：<2%。
- 转速：120-6000rpm。
- 定时器：1-1000秒。
- 电源：DC24V、2A, 使用100-240V 50/60Hz电源适配器。
- 尺寸：220x170x132mm。
- 左：普通旋涂机上有真空密封环形印迹 右：Ossila非真空式旋涂效果
