起订量:
L2002 Ossila-UV Ozone Cleaner
高级会员第10年
生产厂家企业历程 :
◆ 2006 年,在美国加州洛杉矶注册成立赛福国际集团有限公司(CIF International Group Co.,Ltd)。成立之初是一 家面向大学科研院所销售仪器设备的供应商。
◆ 2008 年, 自主研发生产石墨电热板以来, 先后研发生产酸蒸逆流清洗器、酸纯化器、智能消解仪等理化实验仪器设备, 从此走上研发生产专业化道路。
◆ 2010 年,掌握了等离子核心技术,自主研发生产科研型等离子清洗机系列产品。
◆ 2014 年, 在中国注册成立华仪行(北京) 科技有限公司, 正式进入中国市场, 部分仪器设备研发、制造业务移至中国。
◆ 2015 年,自主研发生产专为处理粉体样品而设计转瓶等离子清洗机。
◆ 2017 年,自主研发生产紫外臭氧清洗机系列产品。
◆ 2018 年,在中国成注册立赛福仪器承德有限公司,将研发制造业务全部移至中国。
◆ 2019 年,电镜专用远程等离子清洗机研发成功。
◆ 2021 年,自主研发生产中试、生产型等离子清洗系列产品,完善了等离子产品线。
◆ 2023 年,科研型等离子去胶机、RIE 蚀刻机研发成功。
公司专注材料表面处理技术:
◆ 改性(等离子清洗机、紫外臭氧清洗机) ◆ 去胶(等离子去胶机)
◆ 蚀刻(等离子刻蚀机) ◆ 涂层(等离子溅射镀膜机、匀胶机、烤胶机)
企业愿景:
致力于为全球用户提供专业的表面处理整体解决方案。
企业使命:
CIF与我们的员工、客户乃至商业伙伴在内的所有人,同呼吸,共命运,共同成长,共同发展,共同成就梦想!
Ossila-UV Ozone Cleaner
目前紫外臭氧清洗机的主要应用表面UV光清洗和表面UV光改质。
u 表面UV光清洗:利用紫外光以及由其产生的臭氧OZONE,对有机物质所起的光敏氧化分解作用,以达到去除粘附在物体表面上的有机化合物(碳氢化合物),获得超洁净的表面。
u 表面UV光改质:利用紫外光照射有机表面,在将有机物分解的同时,254nm波长的紫外光被物体表面吸收后,将表层的化学结构切断,光子作用产生原子氧会与被切断的表层分子结合,并将之变换成具有高度亲水性的官能基(如-OH,-CHO,-COOH),从而提高表面的浸润性。
UV Ozone Cleaner主要应用
产品特点
超净表面。
UVO样品托盘
二、技术参数
紫外灯类型 | 低压石英水银蒸汽灯 |
紫外线灯的主要波长 | 185nm和254nm |
UV灯管尺寸 | 100x100mm |
UV灯电源 | 4000V,30mA |
UV灯寿命 | 每天使用可用8-10年 |
适用电压 | 230V,0.6A,50Hz//opt.(110V,1.2A,60Hz) |
大运行时间 | 59分59秒 |
安全 | 安全联锁,高温报警,高温断电。 |
托盘尺寸 | 120x120mm |
大样品尺寸 | 100x100mm |
总尺寸 | 长204mm、高227mm、宽300mm |
在紫外线臭氧清洗前水滴在OTS-treated硅基质上(300nm二氧化硅表面)(左)紫外臭氧清洗10分钟后(右)。