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EVG610纳米压印 EVG®610 紫外线纳米压印光刻系统
- 型号
- EVG610纳米压印
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公司自成立以来就一直专注于半导体、微组装和电子装配等领域的设备集成和技术服务；目前公司拥有一支在半导体制造、微组装及电子装配等领域经验丰富的专业技术团队，专业服务于混合电路、光电模块、MEMS、先进封装（TSV、Fan-out等）、化合物半导体、微波器件、功率器件、红外探测、声波器件、集成电路、分立器件、微纳等领域。我们不仅能为客户提供整套性能可靠的设备，还能根据客户的实际生产需求制订可行的工艺技术方案。
目前亚科电子已与众多微电子封装和半导体制造设备企业建立了良好的合作关系（如：BRUKER、EVG、TRYMAX、CAMTEK、CENTROTHERM、SENTECH、ENGIS、ADT、SONOSCAN、ASYMTEK、MARCH、PANASONIC、HYBOND、OKI、KEKO等），为向客户提供先进的设备和专业的技术服务打下了坚实基础。
详细信息
EVG®610 UV Nanoimprint Lithography System
EVG®610 紫外线纳米压印光刻系统
具有紫外线纳米压印功能的通用研发掩膜对准系统，从小件到大150毫米
技术数据
该工具支持多种标准光刻工艺，例如真空，软，硬和接近曝光模式，并且可以选择背面对准。此外，该系统还为多功能配置提供了附加功能，包括键合对齐和纳米压印光刻（NIL）。
EVG610提供快速的处理和重新安装工具，以改变用户需求，光刻和NIL之间的转换时间仅为几分钟。其先进的多用户概念可以适应从初学者到专家级别的所有需求，因此使其非常适合大学和研发应用。
对于压印工艺，EVG610允许基板的范围从小芯片尺寸到直径150毫米。纳米技术应用的配置除了可编程的高和低接触力外，还可以包括邮票的释放机制。 EV Group专有的卡盘设计可提供均匀的接触力，以实现高产量的印记，该卡盘支持软性和硬性印模。
特征
顶侧和底侧对齐能力
高精度对准台
自动楔形误差补偿机制
电动和配方控制的曝光间隙
支持新的UV-LED技术
小化系统占地面积和设施要求
分步流程指导
远程技术支持
多用户概念（无限数量的用户帐户和配方，可分配的访问权限，不同的用户界面语言）
敏捷处理和光刻工艺之间的转换； 台式或带防震花岗岩台的单机版
附加功能：键对齐、红外对准、纳米压印光刻、µ接触印刷
技术数据
晶圆直径（基板尺寸）标准光刻：大150毫米的碎片；柔软的UV-NIL：大150毫米的碎片
解析度≤40 nm（分辨率取决于模板和工艺）
支持流程
柔软的UV-NIL
曝光源：汞光源或紫外线LED光源
自动分离：不支持；
工作印章制作：外部；
