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EVG770 NT 分步重复纳米压印光刻机
- 型号
- EVG770 NT
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岱美有限公司（Dymek Company Ltd ，下面简称岱美）成立于1989年，是一间拥有多年经验的高科技设备分销商，主要为数据存储、半导体、光通讯、高校及研发中心提供各类测量设备、工序设备以及相应的技术支持，并与一些重要的客户建立了长期合作的关系。自1989年创立至今，岱美的产品以及各类服务、解决方案广泛地运用于香港，中国台湾，中国大陆，泰国，菲律宾，马来西亚及新加坡等地区。
岱美在中国大陆地区主要销售或提供技术支持的产品：
晶圆键合机、纳米压印设备、紫外光刻机、涂胶显影机、硅片清洗机、超薄晶圆处理设备、光学三维轮廓仪、硅穿孔TSV量测、非接触式光学三坐标测量仪、薄膜厚度检测仪、主动及被动式防震台系统、应力检测仪、电容式位移传感器等。
岱美重要合作伙伴包括有：n&k Technology ; Veeco di, Wyko, Dektak, IBE, IBD, MTI; Imago; 4D; First Nano; GatanSagitta; AXIC; Tamarack; Thermo Noran; Magnetic Recording Solutions; Schmitt; EVG; Shb; SPTS; ADE; CETR; Contrade; DeWeyl; Filmetrics - Greater China; Global Optron; Herz; Innovative Instrumentation Incorporated; LESCO; Microphysics; OSC; Palomar; PPL JPS; Strasbaugh; Tru-Si; VIC; Westbond; Diamond Innovations; Innovative Organics;nPoint;Photonic Cleaning Technology
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详细信息
纳米压印机是一种科研设备，利用纳米压印技术将预制的模具图案转移到工件上，以制作出纳米级别的微结构。它是纳米制造技术的一种，被广泛应用于纳米电子、纳米光子学、纳米生物技术、微电机械系统等领域。
1. 简介
我们的EVG770分步重复纳米压印光刻机是用于步进式纳米压印光刻的通用平台，可用于有效地进行母版制作或对基板上的复杂结构进行直接图案化。这种方法允许从蕞大50 mm x 50 mm的小模具到蕞大300 mm基板尺寸的大面积均匀地复制模板。结合金刚石车削或直接写入方法，分步重复刻印通常用于有效地制造晶圆级光学器件制造或EVG的SmartNIL工艺所需的母版。
2. 纳米压印设备主要应用
主要使用连续重复的纳米压印光刻技术，可进行有效的母版制作（例如：微镜头制作）。
3. 特色
EVG770的主要功能包括精确的对准功能，全缅的过程控制以及可满足各种设备和应用需求的灵活性。
4. 纳米压印机参数特征
1）高效的晶圆级光学微透镜主制造，直至SmartNIL的纳米结构®
2）简单实施不同类型的主机
3）可变抗蚀剂分配模式
4）分配，压印和脱模过程中的实时图像
5）用于压印和脱模的原位力控制
6）可选的光学楔形误差补偿
7）可选的自动盒带间处理
5. EVG770技术数据
1）晶圆直径（基板尺寸）：100至300毫米
2）解析度：≤50 nm（分辨率取决于模板和工艺）
3）支持的工艺：软UV-NIL纳米压印
4）曝光源：大功率LED（i线）> 100 mW /cm²
5）对准：顶面显微镜，用于实时重叠校准≤±500 nm和精细校准≤±300 nm
6）弟一个印刷模具到模具的放置精度：≤1微米
7）有效印记区域：长达50 x 50毫米
8）自动分离：支持
9）预处理功能：涂层：液滴分配（可选）
6. 纳米压印工艺结果
图1 微镜头
图2 纳米压印结果（100纳米分辨率）
