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VE-2012 日本shinkuu真空简单的真空气相沉积系统
- 型号
- VE-2012
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详细信息
日本shinkuu真空简单的真空气相沉积系统
通过在外壳中内置TMP来实现紧凑的外壳。由于它是台式机类型，因此不会占用空间。RP被放置在地板上。
我们以低价提供带有小TMP + RP排气系统的清洁，高真空气相沉积设备。一个简单的操作系统，消除了复杂的排气操作，仅打开和关闭开关。
可以使用钨筐沉积金，铝，铬，银等。对于碳气相沉积，使用了一种钳式气相沉积枪型，它会随着碳的蒸发而蒸发锋利的铅笔型替换芯。（不能使用Φ5mm碳棒。）
购买时，我们将选择碳气相沉积电极或金属气相沉积电极。可以选择购买其他电极。
碳蒸镀电极
Φ0.5mm碳蒸镀电极，仅用于碳。
它能够在高真真空区中沉积碳，并且可以形成具有优异膜质量和膜强度的碳膜。
附带的防污盖可醉大程度地减少碳蒸气沉积的扩散范围，并减少清洁负担。
建议使用碳SLC-30作为碳气相沉积源。
金属气相
沉积电极这是专门用于钨筐的金属气相沉积电极。
可以轻松地沉积金，铝，铬等。随附的防污罩可醉大程度地减少气相沉积范围，并减少清洁负担。
主要产品规格
| 项目 | 规范 |
| 电源 | AC100V（单相100V15A） |
| 装置尺寸 | 宽400毫米，深425毫米，高546毫米 （设备重量25千克） |
| 旋转泵（外部） | 排气速度50ℓ/ min（G-50DA） （重量11kg） |
| 涡轮泵（内置装置） | 排气速度67ℓ/秒 |
| 样品台 | 直径72毫米 |
| 沉积源-样品台间距 | 可在0毫米至140毫米范围内调节 |
关于选项
2018.11.01
选配
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