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RAITH- EBPG5200 高性能电子束曝光机
- 型号
- RAITH- EBPG5200
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公司自成立以来就一直专注于半导体、微组装和电子装配等领域的设备集成和技术服务；目前公司拥有一支在半导体制造、微组装及电子装配等领域经验丰富的专业技术团队，专业服务于混合电路、光电模块、MEMS、先进封装（TSV、Fan-out等）、化合物半导体、微波器件、功率器件、红外探测、声波器件、集成电路、分立器件、微纳等领域。我们不仅能为客户提供整套性能可靠的设备，还能根据客户的实际生产需求制订可行的工艺技术方案。
目前亚科电子已与众多微电子封装和半导体制造设备企业建立了良好的合作关系（如：BRUKER、EVG、TRYMAX、CAMTEK、CENTROTHERM、SENTECH、ENGIS、ADT、SONOSCAN、ASYMTEK、MARCH、PANASONIC、HYBOND、OKI、KEKO等），为向客户提供先进的设备和专业的技术服务打下了坚实基础。
详细信息
高性能电子束曝光机是一款高性能的纳米光刻系统，拥有完整200mm尺寸的光刻能力，这款电子束光刻系统代表了不断进化的高度成功和广为市场接受的EBPG系列产品。它提供了不同用途的解决方案，包括纳米尺度的电子束直写和大学研究所，以及商业化的生产力中心研发用的掩膜版制作。
同时，系列产品还包括新的EBPG5150电子束直写系统，使用了相同的平台设计，是一款155mm*155mm尺寸平台的系统。
Improved Specifications：
Ultra-fast, low-noise pattern generator 125 MHz
Extreme beam current up to 350 nA
Excellent direct write performance with overlay accuracy of ≤ 5nm
高束流密度，热场发射电子枪可以在20、50和100kV之间切换
200mm的平台可以曝光完整8英寸的硅片或者7英寸的掩膜版
小曝光特征尺寸小于8nm
高速度曝光，可采用50或100MHz的图形发生器
在所有KVs加速电压下，可连续改变的写场大小，大可以到1mm
GUI人机交互界面友好，简洁易用，适用于多用户环境
多项灵活可选择的配置，可以适用于不同应用的需求
模块化的系统架构：
模块化的系统架构设计，可以让用户根据需要选择配置，可以在将来技术升级的时候，保护用户的初始投资，提供不同类型的升级策略。
电子束曝光系统EBPG5200 产品详情
高性能电子束曝光机主要应用：
100KV高加速电压可用于曝光高深宽比纳米结构
高速电子束直写
批量生产， 如化合物半导体器件
防伪标识
电子光学柱技术：
EBPG
电子束
100 kV
样品台：
覆盖完整8英寸硅片大小
Z轴垂直高度大范围可调(可选)
10工位自动上料
