参考价：
150万-200万
起订量：
RAITH-EBPG5150 电子束直写系统 EBPG5150
- 型号
- RAITH-EBPG5150
该企业相似产品
半导体设备，微组装设备，LTCC设备，化工检测设备
公司自成立以来就一直专注于半导体、微组装和电子装配等领域的设备集成和技术服务；目前公司拥有一支在半导体制造、微组装及电子装配等领域经验丰富的专业技术团队，专业服务于混合电路、光电模块、MEMS、先进封装（TSV、Fan-out等）、化合物半导体、微波器件、功率器件、红外探测、声波器件、集成电路、分立器件、微纳等领域。我们不仅能为客户提供整套性能可靠的设备，还能根据客户的实际生产需求制订可行的工艺技术方案。
目前亚科电子已与众多微电子封装和半导体制造设备企业建立了良好的合作关系（如：BRUKER、EVG、TRYMAX、CAMTEK、CENTROTHERM、SENTECH、ENGIS、ADT、SONOSCAN、ASYMTEK、MARCH、PANASONIC、HYBOND、OKI、KEKO等），为向客户提供先进的设备和专业的技术服务打下了坚实基础。
详细信息
专业电子束曝光系统
电子束直写系统 EBPG5150
自动化和高速度的电子束直写技术
电子束直写系统EBPG5150使用了155mm大小的样品台，采用跟电子束曝光机EBPG5200一样的通用光刻平台设计，对电子束直写应用进行了优化。它可以载入不同大小的样品,包括多片散片以及完整的硅片。
Improved Specifications
- Ultra-fast, low-noise pattern generator 125 MHz
- Extreme beam current up to 350 nA
- Excellent direct write performance with overlay accuracy of ≤ 5nm
- 高束流密度，热场发射电子枪可以在20、50和100kV之间切换
- 155mm的平台
- 小曝光特征尺寸小于8nm
- 高速度曝光，可采用50或100MHz的图形发生器
- 在所有KVs加速电压下，可连续改变的写场大小，大可以到1mm
- GUI人机交互界面友好，简洁易用，适用于多用户环境
- 多项灵活可选择的配置，可以适用于不同应用的需求
可选的系统增强升级
EBPG5150可以选择不同的升级选项，以满足用户不同的技术和预算需求。让*的高校等研究类用户也可以使用这款非常先进、高自动化的电子束光刻系统。
电子束直写系统EBPG5150 应用
电子束曝光用于制作GaAs T型器件
微盘谐振器
开口环谐振器
电子束直写系统EBPG5150 产品详情
主要应用：
| 电子光学柱技术：
| 样品台：
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