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IH-860DSIC 半导体设备离子注入机
- 型号
- IH-860DSIC
半导体设备
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详细信息
配备高温ESC的SiC量产用高能离子注入装置。
特长
·可以自动连续高温处理注入
·1价离子可注入350keV，2价离子可注入700keV（可选择1价离子可注入430keV，2价离子可支持860keV）
·在双端站实现高吞吐量（A系4“高温ESC/B系3”高温ESC、A系6“高温ESC/B系6”常温ESC等，可根据客户的要求构建规格）
·可以进行链条注入，减轻操作员的负荷
·小型设计
·从试作到量产可以广泛对应
特长
·可以自动连续高温处理注入
·1价离子可注入350keV，2价离子可注入700keV（可选择1价离子可注入430keV，2价离子可支持860keV）
·在双端站实现高吞吐量（A系4“高温ESC/B系3”高温ESC、A系6“高温ESC/B系6”常温ESC等，可根据客户的要求构建规格）
·可以进行链条注入，减轻操作员的负荷
·小型设计
·从试作到量产可以广泛对应
