$item.Name
$item.Name
$item.Name
$item.Name
$item.Name

首页>实验室常用设备>制样/消解设备>其它消解设备

Centrotherm Activator150 Centrotherm 高温退火炉系统

型号
Centrotherm Activator150
参数
产地类别:进口 应用领域:石油,能源,电子
北京亚科晨旭科技有限公司

初级会员6年 

生产厂家

该企业相似产品

松下-Panasonic贴片机 MD-P200

在线询价

Panasonic 松下等离子切割设备

在线询价

SEMSYSCO晶圆电镀平台:Galaxy仪器设备

在线询价

KEKO(大型)流延机CAM-H系列

在线询价

Centrotherm 快速热工艺设备-RTP 150

在线询价

Centrotherm 快速退火炉-c.RAPID 150

在线询价

Centrotherm 高温氧化系统-Oxidator 150

在线询价

CAMTEK 自动光学检验AOI设备 MEMS

在线询价
半导体设备,微组装设备,LTCC设备,化工检测设备

公司自成立以来就一直专注于半导体、微组装和电子装配等领域的设备集成和技术服务;目前公司拥有一支在半导体制造、微组装及电子装配等领域经验丰富的专业技术团队,专业服务于混合电路、光电模块、MEMS、先进封装(TSV、Fan-out等)、化合物半导体、微波器件、功率器件、红外探测、声波器件、集成电路、分立器件、微纳等领域。我们不仅能为客户提供整套性能可靠的设备,还能根据客户的实际生产需求制订可行的工艺技术方案。
目前亚科电子已与众多微电子封装和半导体制造设备企业建立了良好的合作关系(如:BRUKER、EVG、TRYMAX、CAMTEK、CENTROTHERM、SENTECH、ENGIS、ADT、SONOSCAN、ASYMTEK、MARCH、PANASONIC、HYBOND、OKI、KEKO等),为向客户提供先进的设备和专业的技术服务打下了坚实基础。


详细信息

Centrotherm 高温退火炉系统-Activator 150

一、产品简介

Centrotherm Activator 150 高温炉设计用于SiCGaN器件注入后退火。Centrotherm*工艺炉管和加热系统设,允许工艺温度达到 1850 ℃

此外,Activator 150 系列的产品可以实现生长石墨烯生长。通过碳化硅升华生长石墨层可以获得高性能器件。

Centrotherm 新一代SiC工艺炉管的研发用以满足新兴的150 毫米 SiC工艺。

Centrotherm Activator 150-5 是为研发工作而特制的,而Centrotherm Activator 150-50专为大批量生产设计。

广泛的工艺范围实现了对自定义化程序的优化, 例如温度, 气路系统和压力。

 

二、典型应用

SiC器件高温退火 (注入后)

GaN器件退火

大面积石墨烯生长

SiC表面制备

 

三、产品特性

性能和优势

高活化

小表面粗糙度

最大温度可达 1850 ℃ 


相关技术文章

同类产品推荐

相关分类导航

产品参数

产地类别 进口
应用领域 石油,能源,电子
企业未开通此功能
详询客服 : 0571-87858618
提示

请选择您要拨打的电话:

当前客户在线交流已关闭
请电话联系他 :