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Centrotherm RTP 150 Centrotherm 快速热工艺设备-RTP 150

型号
Centrotherm RTP 150
参数
产地类别:进口 应用领域:电子
北京亚科晨旭科技有限公司

中级会员6年 

生产厂家

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半导体设备,微组装设备,LTCC设备,化工检测设备

公司自成立以来就一直专注于半导体、微组装和电子装配等领域的设备集成和技术服务;目前公司拥有一支在半导体制造、微组装及电子装配等领域经验丰富的专业技术团队,专业服务于混合电路、光电模块、MEMS、先进封装(TSV、Fan-out等)、化合物半导体、微波器件、功率器件、红外探测、声波器件、集成电路、分立器件、微纳等领域。我们不仅能为客户提供整套性能可靠的设备,还能根据客户的实际生产需求制订可行的工艺技术方案。
目前亚科电子已与众多微电子封装和半导体制造设备企业建立了良好的合作关系(如:BRUKER、EVG、TRYMAX、CAMTEK、CENTROTHERM、SENTECH、ENGIS、ADT、SONOSCAN、ASYMTEK、MARCH、PANASONIC、HYBOND、OKI、KEKO等),为向客户提供先进的设备和专业的技术服务打下了坚实基础。

 

详细信息

Centrotherm 快速热工艺设备-RTP 150

一、产品简介

德国Centrotherm公司是国际主流的半导体设备供应商,尤其在高温设备领域。Centrotherm RTP 150是一款高性能快速热工艺设备,主要用于满足研发和小规模量产所需的多种工艺要求。

 

RTP 150型快速热反应设备,采用紧凑型的真空腔室设计满足多种工艺需要,是一款可用于生产和研发用的单晶圆工艺设备。

RTP 150型设备包括一个带集成压力学习控制压力范围在1mbar至50mbar的真空腔室。采用灯管加热系统提供了可调节的加热均匀性控制,采用了CENTROTHERM公司技术的温度控制系统。

RTP系统可用于6寸晶圆和5寸石墨基板的加热。可在15分钟内更换基板的尺寸和类型。

设备用于高性能、小占地面积、低成本高工艺灵活性的工艺场合。

 

设备特点:

压力可控的真空或大气环境下工作

高灵活性:最大6寸硅片或其他材料

温度范围:20℃~1150℃

*加热的工艺温度可达 750℃

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产品参数

产地类别 进口
应用领域 电子
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详询客服 : 0571-87858618
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