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VTC-600-2HD 双靶磁控溅射仪
- 型号
- VTC-600-2HD
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详细信息
双靶磁控溅射仪主要特点：
1、配置两个靶枪，一个配套射频电源用于非导电靶材的溅射镀膜，一个配套直流电源用于导电性材料的溅射镀膜。
2、可制备多种薄膜，应用广泛。
3、体积小，操作简便。
技术参数：
1、配置两个靶枪，一个配套射频电源用于非导电靶材的溅射镀膜，一个配套直流电源用于导电性材料的溅射镀膜。
2、可制备多种薄膜，应用广泛。
3、体积小，操作简便。
技术参数：
| 产品名称 | VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪 | |
| 产品型号 | VTC-600-2HD | |
| 安装条件 | 本设备要求在海拔1000m以下，温度25℃±15℃，湿度55%Rh±10%Rh下使用。 1、水：设备配有自循环冷却水机（加注纯净水或者去离子水） 2、电：AC220V 50Hz，必须有良好接地 3、气：设备腔室内需充注氩气（纯度99.99%以上），需自备氩气气瓶（自带Ø6mm双卡套接头）及减压阀 4、工作台：尺寸1500mm×600mm×700mm，承重200kg以上 5、通风装置：需要 | |
| 主要参数 | 1、电源电压：220V 50Hz 2、功率：<2KW（不含真空泵） 3、极限真空度：9.0×10-4Pa 4、样品台加热温度：RT-500℃，精度±1℃（可根据实际需要提升温度） 5、靶枪数量：2个（可选配其他数量） 6、靶枪冷却方式：水冷 7、靶材尺寸：Ø2″，厚度0.1-5mm（因靶材材质不同厚度有所不同） 8、直流溅射功率：500W；射频溅射功率：300W。（靶电源种类可选，可选择两个直流电源，也可选择两个射频电源，或选则一个直流一个射频电源） 9、载样台：Ø140mm，可根据客户需求选配加装偏压功能，以实现更高质量的镀膜。 10、载样台转速：1rpm-20rpm内可调 11、工作气体：Ar等惰性气体 12、进气气路：质量流量计控制2路进气，一路为100SCCM，另一路为200SCCM。 | |
| 产品规格 | 1、主机尺寸：500mm×560mm×660mm | |
| 标准配件 | 1直流电源控制系统1套 2射频电源控制系统1套 3膜厚监测仪系统1套 4分子泵（德国进口）1台 5冷水机1台 6冷却水管（Ø6mm）4根 | |
| 可选配件 | 金、铟、银、铂等各种靶材 | |
