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Full Deposition PSL Wafer 校准晶圆标准品-半导体表征
科睿设备有限公司(Cross-Tech Equipment Co.,Ltd )为多家国外高科技仪器厂家在中国地区的代理。科睿公司一贯秉承『诚信』、『品质』、『服务』、『创新』的企业文化,为广大中国用户提供仪器、设备,周到的技术、服务和*的整体解决方案。在科技日新月异、国力飞速发展的中国,纳米科学研究、薄膜材料(包括半导体)生长和表征、表面材料物性分析、生物药物开发、有机高分子合成等等领域,都需要与欧美发达国家*接轨的仪器设备平台来实现。科睿设备有限公司有幸成长在这个火热的年代,我们愿意化为一座桥梁,见证中国科技水平的提升,与中国科技共同飞速成长。
科睿设备有限公司(Cross-Tech Equipment Co.,Ltd)总部设在中国香港,在中国上海设立了分公司,在国内多个城市设立了办事处或维修站,旨在为客户提供*的产品和服务。2010年,科睿设备有限公司在上海设立备品仓库及维修中心,同时提供在大陆的各项技术服务和后期的维修保障服务,我们拥有专业的应用维修人员,并且都曾到国外厂家进行了专门的培训。上海配备了多种维修部件,能使我们的服务更加快捷和方便。我们承诺24小时电话响应,72小时内赶到现场维修。以利于更好、更快的为中国大陆服务!
因为信任,所以理解.我们理解用户的困难和需求。我们已经为国内众多科研院所和大学根据用户的要求配制和提供了上百套系统,主要用户包括:中科院物理所,中科院半导体所,中科院大连化学物理研究所,国家纳米中心,上海纳米中心,北京大学,清华大学,中国科技大学,南京大学,复旦大学,上海交通大学,华东理工大学,浙江大学,中山大学,西安交通大学,四川大学,中国工程物理研究院,香港大学,香港城市大学,香港中文大学,香港科技大学等。
污染晶圆标准品、校准晶圆标准品和二氧化硅颗粒晶圆标准品使用颗粒沉积系统生产,该系统将首先使用差分迁移率分析仪(DMA)分析PSL尺寸峰或二氧化硅尺寸峰。DMA是一种高精度颗粒扫描工具,结合凝聚态粒子计数器和计算机控制,基于NIST可追溯粒径校准分离出高精度粒径峰。一旦尺寸峰得到验证,粒度流就被引导到主硅、晶圆标准表面。颗粒在沉积在晶圆表面上之前被计数,通常是在晶圆上全部沉积。或者,可以在晶圆周围的特定位置沉积多达 8 个粒径作为点沉积。晶圆标准品为KLA-Tencor Surfscan SP1、KLA-Tencor Surfscan SP2、KLA-Tencor Surfscan SP3、KLA-Tencor Surfscan SP5、Surfscan SPx、Tencor 6420、Tencor 6220、Tencor 6200、ADE、Hitachi和Topcon SSIS工具和晶圆检测系统的尺寸校准提供高精度的尺寸峰。
PSL球体尺寸标准品和二氧化硅尺寸标准液由差分迁移率分析仪扫描,以确定真正的尺寸峰。一旦分析了尺寸峰,就可以将晶圆标准品沉积为全沉积或点沉积,或多点沉积晶圆标准品。扫描上方100纳米(0.1微米)处的二氧化硅尺寸峰,DMA在101nm处检测到真正的二氧化硅尺寸峰。
全沉积或点沉积晶圆标准品–颗粒沉积系统提供高精度的PSL校准晶圆标准品和二氧化硅污染晶圆标准品。
我们的 2300 XP1 颗粒沉积系统提供自动颗粒沉积控制,以生成您的 PSL 晶圆标准品和二氧化硅晶圆标准品。
高分辨率、NIST 可追溯的 DMA(差分迁移率分析仪)选型和分类超过了新的 SEMI 标准 M52、M53 和 M58 协议,以实现 PSL 尺寸精度和尺寸分布宽度
在 60nm、100nm、269nm 和 900nm 处自动校准沉积尺寸
先进的差动率分析仪(DMA)技术,具有自动温度和压力补偿功能,可提高系统稳定性和测量精度
自动沉积工艺可在一个晶圆上提供多个点沉积
整个晶圆上的完整晶圆沉积;或在晶圆上的任何位置进行点沉积
高灵敏度允许PSL球和二氧化硅颗粒沉积从20nm到2um
沉积二氧化硅颗粒,用于使用高功率激光扫描校准晶圆检测系统
存放PSL球体,以便使用低功率激光扫描校准晶圆检测系统
将PSL球体和二氧化硅颗粒沉积在主要硅晶圆标准品或150mm光掩模上。
颗粒沉积工具用于在晶圆标准品上沉积非常精确的PSL尺寸标准品或二氧化硅粒径标准品,以校准各种晶圆检测系统。
PSL校准晶圆标准,用于校准使用低功率激光器扫描晶圆的晶圆检测系统。
二氧化硅污染晶圆标准,用于校准使用高功率激光器扫描晶圆的晶圆检测系统。
我们的 2300 XP1 在 75mm 至 300mm 晶圆直径的硼硅酸盐掩模和优质硅上沉积 NIST 可追溯、经过认证的掩模标准。
125mm 和 150mm 模板上的 PSL 校准模板标准
150mm口罩上的二氧化硅污染标准
75mm至300mm校准晶圆标准
75mm至300mm二氧化硅污染晶圆标准