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RIE-10NR 日本SAMCO RIE等离子蚀刻设备

型号
RIE-10NR
参数
晶圆尺寸:8英寸 尺寸:500 mm(宽)x 920 mm(深)x 1501 mm(高) 反应室尺寸:φ340mm
似空科学仪器(上海)有限公司

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仪器设备发展的是探测手段和传感器不对被测目标产生任何干扰,企业管理的是一切以市场为核心,不以自我的意愿抗拒市场的趋势,代替客户的喜好,于是我们取名“似空”,希望以忘我的精神服务客户。

 

详细信息

 

反应离子刻蚀机

SAMCO RIE-10NR

 





简介:

RIE-10NR是一种新型的低成本、
高性能、全自动反应离子刻蚀系统,
能够满足非腐蚀性气体化学最KE刻
的工艺要求。
计算机化触摸屏为工艺配方编
程和存储提供了用户友好的界面。
该系统可以实现精确的侧壁轮
廓控制和材料之间的高蚀刻选择性。
凭借其圆滑、紧凑的设计,
RIE-10NR只需要很小的洁净室空间。
 
应用:
硅、二氧化硅、氮化硅、多晶硅、
砷化镓、钼、铂、聚酰亚胺等材料的
腐蚀失效分析中的选择性层腐蚀。




 

 

 

 

 

 

 

主要功能和优点:
1、加工至ø220 mm(ø3“x 5,ø4”x 3,ø8”x 1)。
2、高选择性各向异性蚀刻满足严格的工艺要求全自动“一键式”操作。
3、自动压力控制,允许独立于气流干泵和系统布局的过程压力精确控制,便于维护。
4、于Windows的用户界面,丰富的配方和内置的数据记录功能,是一个可靠和持久的系统,全球安装了400多个系统。
 
 
 
主要参数规格:
基板
220 mm(ø3“x 5,ø4”x 3,ø8”x 1)
负载
开放式
上下电极
ø240 mm
射频功率
300瓦@13.56兆赫,自动匹配(500瓦为选项)
可切换射频供电电极(阳极/阴极模式)为选项
气体管道
内部2条MFC控制的气体管道(最多6条)
干泵(500升/分钟)
操作系统
触摸屏操作(可选择基于Windows的用户界面)、配方管理
端点检测
光学发射光谱(OES)作为一种选择
尺寸
500 mm(宽)x 920 mm(深)x 1501 mm(高)

 

 
 
 
             
 
 
 



 


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产品参数

晶圆尺寸 8英寸
尺寸 500 mm(宽)x 920 mm(深)x 1501 mm(高)
反应室尺寸 φ340mm
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