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Nanofilm_EP4 椭偏仪
- 型号
- Nanofilm_EP4
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深圳市锡成科学仪器有限公司自成立以来，一直秉承诚信经营的理念，充分考虑客户的技术需求及资金预算，为广大客户推荐合适的产品及服务。
我们自研及代理的国内外多种仪器设备，已广泛应用于材料、电子、新能源、建筑、环保及化工等领域，用户涵盖各类高校、研究所、企业实验室和质检部门等。在样品制备、分析测试、材料及器件的性能表征等方面，深受用户认可。
我们将一如既往，努力为客户提供完善的实验室一站式服务。
详细信息
椭偏仪
超薄膜的实时可视化分析测试，实时观察样品微观尺度上的结构。可以测量诸如薄膜厚度、折射率和吸收系数等参数。也可以对薄膜进行区域化(选区)分析，获得所选区域的成像分析图。
椭偏仪产品特点
ª 自动消光型椭偏分析技术和传统的显微镜技术结合，可视化实时图像椭偏分析，横向(X/Y方向)分辨率优于1μm。
ª 实时椭偏对比度图像，实时视频图像分析。样品的所有微结构、缺陷、污染和动态变化过程都将一览无余。
ª 全画幅聚焦技术解决了斜角入射导致的全画幅聚焦问题，适用于动态原位分析测试，如自组装单分子层的生长和移动、蛋白质相互作用和水面单分子层的漂移等。
ª 光斑切割技术，真正实现超薄透明基底上薄膜的无背底反射椭偏测试。
基础参数 | |
样品对准 | 探测Z方向的位置和倾斜，倾转轴探测精度：0.001°，Z向精度：1μm |
仪器对准 | 光学系统角度倾转调整，独立于样品位置，倾转轴探测精度：0.001° |
Z轴升降系统 | 行程范围：>100mm，可重复性：lμm |
光源 | 低氙弧灯激光光源，噪声低至0.1%，长寿命10000小时； 可选单波长激光光源或200-2000nm连续波长光源； 提供250-1700nm光栅单色器，中段波长精度＜1nm，带宽5/6/12nm； 可选光斑切割照明模块，实现透明基底薄膜的无背底反射干扰测量； |
光学成像系统 | 聚焦扫描系统，在变角度测量时(<80°)实现实时图像，兼容所有物镜，横向分辨率＜1μm； 全画幅聚焦图像/实时视频，横向分辨率2μm，工作入射角：52°~57°； |
探测器 | 单色千兆网(GigE)CCD相机，波长：360nm-1000nm，1392×1040 px，12位，40帧/秒； 可选近红外(NIR)探测相机和紫外线(UV)探测相机； 可选多相机匹配及切换系统； |
物镜 | 2×-50×物镜； UV/IR物镜； |
自动转角仪 | 入射角范围：38°-90°，分辨率：0.001°，角精度：0.01°，转动速度：-5°/秒 |
Z轴自动升降系统 | 行程：12cm，可重复性：1μm，分辨率0.5μm |
拓展附件 | 表面等离子共振（SPR）单元，固/液界面分析单元，光导液/液界面分析单元，微流控分析单元，温度控制单元，电化学分析单元等 |
联用技术 | AFM、石英晶体微天平、反射光谱仪、拉曼光谱仪、白光干涉仪等 |
