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Unimill 离子减薄仪- TEM 样品制备
高级会员第10年
生产厂家复纳科学仪器(上海)有限公司(简称“复纳科技”)于 2012 年在上海成立,聚焦荷兰飞纳台式扫描电镜在中国市场的推广和应用,涵盖领域包括材料、锂电新能源、半导体、生命科学和法医检测等。
截止目前,复纳科技服务超过 2000 家飞纳电镜客户和 100 家相关产品客户,包括:清华大学、北京大学、复旦大学、上海交通大学、华南理工大学和中科院系统等高校科研单位;巴斯夫、宁德时代、微软、默克和出入境检验局等企事业单位。
2017 年开始,复纳科技陆续与 7 家行业品牌建立了长期合作,致力于为中国高校、研究所、企业和政府用户提供先进可靠、高效智能的科学分析仪器、优质专业的服务和基于核心技术的解决方案。目前已引进先进的:DENSsolutions TEM原位样品杆,飞纳台式扫描电镜,NEOSCAN台式高分辨显微 CT,ForgeNano原子层沉积、 Technoorg Linda SEM/TEM样品制备和VSParticle 纳米气溶胶沉积等设备。
十年以来,复纳科技赋能中国科研创新、工业升级,人工智能检测的使命也越来越清晰。
Unimill 离子减薄仪--用于 TEM/XTEM 样品制备的全自动离子束减薄系统
Technoorg Linda UniMill 离子减薄仪专为快速地制备具备高减薄率的、高质量的 TEM/XTEM 样品而设计。 Unimill 既可以使用超高能离子枪进行快速研磨,也可以使用专用的低能离子枪进行最终抛光和精修处理。
产品特色:
·可直接使用同一台仪器进行快速减薄和抛光/精细处理
·支持全自动的离子枪参数设置和手动调节离子束研磨参数
·具备广泛的离子枪能量范围: 低能离子枪与超高能离子枪结合,能量范围可达 100 eV ~ 16 keV
·具备高的切削率
·可选择配备 LN2 液氮制冷
离子枪优势
UniMill 包括两支独立控制的离子枪:一支高能或超高能离子枪和一支低能离子枪。
高能和超高能离子枪
Unimill 的高能和超高能离子枪提供了最高的研磨率。高达 16 keV 的离子枪专为要求极低研磨速率的 TEM 样品制备而设计。
低能离子枪
离子枪的特殊结构可在整个制备过程中形成高束流密度。能量极低的离子束保证了表面损伤和离子束诱导非晶化效应的最小化。
离子枪控制
所有离子枪参数,如加速电压和离子束电流在内均由智能反馈回路控制,但始终可以在样品制备过程中进行手动调节。离子枪参数的初始值支持自动设置或手动调节,同时可在电脑上连续监控和显示。
性能参数
离子枪
超高能离子枪(可选):
离子束能量:高达16 keV,连续可调
离子束电流:高达 500 μA
离子束直径:1.6 - 1.8 mm (FWHM)
高能离子枪(标配):
离子束能量:高达10 keV,连续可调
离子束电流:高达 300 μA
离子束直径:0.9 - 1.3 mm (FWHM)
低能离子枪:
离子束能量:100 eV - 2 keV,连续可调
离子束电流:7 - 80 μA
离子束直径:1.5 - 2.2 mm (FWHM)
样品台
切削角度:0°- 40°,每 0.1° 连续可调
电脑控制的平面内样品旋转和移动:
360° 旋转
从±10° 到±120° 移动,每 10° 连续可调
可兼容的 TEM 样品厚度范围 (30 - 200 μm)
成像系统
• 用于全视觉控制和切削监控/终止的 CMOS 相机图像
• 高分辨率彩色 CMOS 相机
• 50 - 400 倍放大范围的手动变焦视频镜头
电脑控制
• 内置工业级计算机
• 简单便捷的图形界面和图像分析模块
• 支持用户手动调节离子枪参数,包括气流调节
• 用于自动设置机械和切削参数的预编程方案(可以
手动调整)
• 自动样品加载
• 自动终止:图像分析模块支持的切削过程的光学终止
( 通过检测薄区穿孔或监测表面形貌)
供气系统
• 99.999% 纯氩气,绝对压力为 1.3 - 1.7 bar
• 带有电子出口压力监测功能的惰性气体专用压力调节器
•工作气体流量高精准控制
真空系统
• Pfeiffer 真空系统配备无油隔膜和涡轮分子泵,配备紧凑
的全范围 Pirani/Penning 真空计
电源要求
• 100 - 120 V/10 A/ 50-60 Hz 或 220 - 240 V/5 A/ 50-60 Hz
成像案例