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ME-L 穆勒矩阵椭偏仪03090801
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鸿瑞正达主要服务于高等院校、科研院所和研发企业，专注于科研领域，助力科研成果转化。公司提供材料研究成套设备及整套解决方案，包括：高压科学材料、金属材料、电池研发、地质地矿材料、脆性材料、薄膜材料等研究领域的科研成套设备。
我们的服务理念是：让科研更高效、便捷。
详细信息
产品简介： ME-L 是一款科研级全自动高精度穆勒矩阵型椭偏仪，凝聚了科研团队在椭偏技术多年的投入， 其采用行业前沿的创新技术，包括消色差补偿器、双旋转补偿器同步控制、穆勒矩阵数据分析等。可应用 于半导体薄膜结构，半导体周期性纳米结构，新材料，新物理现象研究，平板显示，光伏太阳能，功能性 涂料，生物和化学工程，块状材料分析以及各种各向同性/异性薄膜材料膜厚、光学纳米光栅常数以及一维 /二维纳米光栅材料结构的表征分析。
双旋转补偿器(DRC)配置一次测量全部穆勒矩阵 16 个元素；配置自动变角器、五维样件控制平台等优质硬 件模块，软件交互式界面配合辅助向导式设计，易上手、操作便捷；丰富的数据库和几何结构模型库，保 证强大数据分析能力。
| 产品型号 | ME-L 全自动高精度穆勒矩阵型椭偏仪 |
| 主要特点 | 1、采用氘灯和卤素灯复合光源，光谱覆盖紫外到近红外范围
2、可实现穆勒矩阵数据处理，测量信息量更大，测量速度快、数据更加精准 |
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| 3、基于双旋转补偿器配置， 可一次测量获得全部穆勒矩阵的 16 个元素，相对传统光谱 椭偏仪可获取更加丰富全面的测量信息 |
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| 4、颐光技术确保在宽光谱范围内，提供优质稳定的各波段光谱 |
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| 5、数百种材料数据库、多种算法模型库，涵盖了目前绝大部分的光电材料
6、集成对纳米光栅的分析 度等几何形貌信息 |
| 技术参数 | 1、应用：科研级/企业级 | |
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| 2、基本功能： Psi/Delta、R/T、穆勒矩阵等光谱
3、分析光谱： 380-1000nm(支持扩展至210-1650nm)
4、单次测量时间： 1-8s | |
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| 5、重复性测量精度： 0.005nm | |
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| 6、精度(直通测量空气)
椭偏参数: ψ=45±0.05°△=0±0.1°
穆勒矩阵:对角元素 m=1±0.005； 非对角元素 m=0±0.005 | |
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| 7、光斑大小： 大光斑 2-3mm | |
| 可选配置 | 波段选择 V:380-1000nm UV:245-1000nm XN:210-1650nm DN+:193-2500nm 角度选择 自动:45-90° 手动:55-75°(5°步进),90° 固定:65° 其他选择 Mapping 选择:100×100mm(供参考,按需定制) 温控台:室温一 600C(供参考,按需定制) | |
| 可选配件 | 1 | 温控台 |
| 2 | Mapping 扩展模块 | |
| 3 | 真空泵 | |
| 4 | 透射吸附组件 | |
