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SE-L光谱椭偏仪03090804
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我们的服务理念是：让科研更高效、便捷。
详细信息
产品简介： SE-L 光谱椭偏仪是一款全自动高精度光谱椭偏仪，集众多科技技术，采用行业前沿创新技术，配置全自动测量模块。通过椭偏参数、 透射/反射率等参数的测量，快速实现光学参数薄膜和纳米结构的表征分析。SE-L 光谱椭偏仪广泛应用于半导体薄膜结构：介电薄膜、金属薄膜、高分子、光刻胶、硅、 PZT 膜，激光二极管 GaN 和AlGaN、透明的电子器件、平板显示、光伏太阳能、功能性涂料、生物和化学工程、块状材料分析等领域。
| 产品型号 | SE-L 光谱椭偏仪 |
| 主要特点 | 1、高精度自动测量光学椭偏测量解决方案
2、全自动变角、调焦等控制平台，一键快速测量
3、软件交互式界面配合辅助向导式设计，易上手、操作便捷
4、丰富的数据库和几何结构模型库，保证强大数据分析能力
5、采用氘灯和卤素灯复合光源，光谱覆盖紫外到近红外范围 (193-2500nm)
6、高精度旋转补偿器调制、 PCRSA 配置， 实现Psi/Delta光谱数据高速采 集
7、全自动椭偏测量技术，基于行业电机控制技术，全自动调整测量角 |
|
| 度，高精度控制样件台，实现样件快速自动对准找焦
8、颐光技术确保在宽光谱范围内，提供优质稳定的各波段光谱
9、数百种材料数据库、多种算法模型库，涵盖了目前绝大部分的光电材料 |
| 技术参数 | 1、自动化程度：自动变角
2、应用定位：自动型
3、基本功能： Psi/Delta、N/C/S、R/T 等光谱
4、分析光谱： 380-1000nm(可扩至 193-2500nm)
5、单次测量时间： 0.5-5s
6、重复性测量精度： 0.01nm
7、光斑大小： 大光斑 2-3mm,微光斑 200um
8、入射角调节方式：自动变角
9、入射角范围： 45-90°
10、找焦方式：自动找焦
11、Mapping 行程： 支持 100x100mm(可选配)
12、支持样件尺寸： 至 200mm |
| 可选配置 | 波段选择
V:380-1000nm
UV:245-1000nm
XN:210-1650nm
DN+:193-2500nm 角度选择
自动:45-90°
其他选择 |
|
| Mapping 选择:100×100mm(供参考,按需定制)
温控台:室温一 600℃(供参考,按需定制) | |
| 可选配件 | 1 | 温控台 |
| 2 | Mapping 扩展模块 | |
| 3 | 真空泵 | |
| 4 | 透射吸附组件 | |
