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法国Annealsys真空快速退火炉AS-ONE
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昱臣半导体技术（香港）有限公司是专业的半导体及微电子领域仪器设备供应商，昱臣半导体技术（香港）有限公司所代理的仪器设备广泛用于高校、研究所、半导体企业。
昱臣半导体技术（香港）有限公司目前代理的主要产品包括：
- 霍尔效应测试仪(Hall Effect Measurement System)；
- 快速退火炉(RTP)；
- 回流焊炉，真空烧结炉(Reflow Solder System)；
- 探针台(Probe Station)，低温探针台(Cryogenic Probe Station)；
- 贴片机(Die Bonder)，划片机(Scriber)，球焊机/锲焊机(Wire Bonder)；
- 原子层沉积系统(ALD)，等离子增强原子层沉积设备(PEALD)；
- 磁控溅射镀膜机(Sputter)，电子束蒸发镀膜机(E-beam Evaporator)，热蒸发镀膜机(Thermal Evaporator)，脉冲激光沉积系统(PLD) ;
- 低压化学气相沉积系统(LPCVD)，等离子增强化学气相沉积系统(PECVD)，快速热化学气相沉积系统(RTCVD)；
- 反应离子刻蚀机(RIE)，ICP刻蚀机，等离子体刻蚀机；
- 致冷机/低温恒温器(Cryostat/Cryocooler)；
- 加热台、热板、烤胶台 (Hot Chuck / Hot Plate)；
- 扫描开尔文探针系统(Kelvin Probe)，光反射膜厚仪(Reflectometer)；
- 高温超导磁体(HTS Magnet)，快速场循环核磁共振弛豫测试仪(FFC Reflexometer)；
详细信息
产地：法国AnnealSys；
型号：AS-One100/AS-One150
AS-ONE立式快速退火炉为法国AS公司生产，分为AS-ONE 100, 150, 200三个型号，分别对应4英寸、6英寸、8英寸的真空快速退火炉产品。
应用：
- 快速热退火 RTA；
- 快速热氧化 RTO；
- 扩散，接触退火；
- 化合物半导体退火；
- 氮化，硅化；
- 硒化，硫化；
- 石墨烯沉积，碳纳米管生长；
- 晶体化，致密化；
技术规格：
规格 | AS-ONE 100 | AS-ONE 150 |
腔体尺寸 | 130mm直径 x 25mm | 200mm直径 x 25mm |
红外灯数量/功率 | 12支 / 30KW | 18支 / 34KW |
红外灯冷却方式 | 风扇 | 风扇 |
标准温度范围 | 室温 ~ 1250°C | 室温 ~ 1200°C |
选配高温版本范围 | 室温 ~ 1500°C | 室温 ~ 1300°C |
升温速度 | 0.1°C ~ 200°C/s | 0.1°C ~ 150°C/s |
温度控制 | 快速数字PID控制器 | 快速数字PID控制器 |
热电偶 | K型 | K型 |
高温计 | 150°C ~ 1100°C 400°C ~ 1500°C | 150°C ~ 1100°C 400°C ~ 1500°C |
气体注入 | 石英视窗以下 | 石英视窗以下 |
清洗气路 | 标准配置 | 标准配置 |
工艺气路方式/数量 | MFC / 5路 | MFC / 5路 |
真空获得系统 | 干泵(10-2Torr) 分子泵(10-6Torr) | 干泵(10-2Torr) 分子泵(10-6Torr) |
尺寸/重量 | 510mm x 1425mm x 800mm / 194Kg | 510mm x 1425mm x 800mm / 240Kg |
参考客户：
清华大学、北京大学、复旦大学、华南理工大学、天津中电十八所、南京中电五十五所、GE上海研发中心、南方科大、深圳大学等。
大尺寸样品快速退火炉
快速退火炉(RTP/RTA)是半导体材料和器件常用的一款工艺设备。快速退火炉可以在真空、惰性气氛、不同的工艺气体环境下使用。
仪器特点：
- 快速热处理、快速热退火 RTP / RTA；
- 可在真空、甚至于高真空环境使用；
- 广泛用于太阳能电池片快速退火工艺，如156mm X 156mm电池片，300mm X 300mm电池片等；
