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MILA迷你小型快速退火炉3寸

型号

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原子层沉积系统,快速退火炉,PECVD,刻蚀机

昱臣半导体技术(香港)有限公司是专业的半导体及微电子领域仪器设备供应商,昱臣半导体技术(香港)有限公司所代理的仪器设备广泛用于高校、研究所、半导体企业。

昱臣半导体技术(香港)有限公司目前代理的主要产品包括:

- 霍尔效应测试仪(Hall Effect Measurement System);

- 快速退火炉(RTP);

- 回流焊炉,真空烧结炉(Reflow Solder System);

- 探针台(Probe Station),低温探针台(Cryogenic Probe Station);

- 贴片机(Die Bonder),划片机(Scriber),球焊机/锲焊机(Wire Bonder);

- 原子层沉积系统(ALD),等离子增强原子层沉积设备(PEALD);

- 磁控溅射镀膜机(Sputter),电子束蒸发镀膜机(E-beam Evaporator),热蒸发镀膜机(Thermal Evaporator),脉冲激光沉积系统(PLD) ;

- 低压化学气相沉积系统(LPCVD),等离子增强化学气相沉积系统(PECVD),快速热化学气相沉积系统(RTCVD);

- 反应离子刻蚀机(RIE),ICP刻蚀机,等离子体刻蚀机;

- 致冷机/低温恒温器(Cryostat/Cryocooler);

- 加热台、热板、烤胶台 (Hot Chuck / Hot Plate);

- 扫描开尔文探针系统(Kelvin Probe),光反射膜厚仪(Reflectometer);

- 高温超导磁体(HTS Magnet),快速场循环核磁共振弛豫测试仪(FFC Reflexometer);






详细信息

RTP-1250小型真空快速退火炉(RTP/RTA)为日本进口的快速退火炉。

该仪器:尺寸小巧,使用风冷、无须水冷,电流要求不高(3安培),性价比高,使用方便,非常适合科研院所的科研使用。

 

技术规格:

  - 加热方式:红外卤素钨灯,600W;
  - 卤素红外灯数量:4支;

  - 升温速率:100℃/秒;

  - 降温速率:50秒(1000℃ → 400℃);

  - 温度:1200℃;

  - 温度精度:+/-0.3℃

  - 样品尺寸:50 x 50mm,3寸;

  - 退火环境:真空、惰性气体、空气、其他工艺气氛(如氧气、氢气等);

  - 真空泵及极限压力:机械泵,10-3Torr水平(选配);

  - 电压:220 V,单相;

  - 仪器尺寸:400*300*450mm (W*D*H);

  - 质量:净重30Kg;

仪器特点:

  - 可在真空/不同气氛/空气不同环境下,对样品进行快速热处理;

  - 温控精度高;

  - 适合高校或研究所科研使用;

  - 无须额外的冷却系统;

  - 紧凑的台式设计;

  - 仪器操作方便,样片装取容易;

  - 价格合理,高性价比;

应用领域:

  - 快速热退火 (Rapid Thermal Annealing,RTA);

 - 快速热氧化 (Rapid Thermal Oxidation,RTO);

  - 快速热氮化 (Rapid Thermal Nitridation,RTN);

  - 硅化 (Silicidation);

  - 扩散 (Diffusion);

  - 化合物半导体退火 (Compound Semiconductor Annealing);

  - 离子注入后退火 (Implant Annealing);

  - 电极合金化 (Contact Alloying);

  - 晶化和致密化 (Crystallization and Densification);

  - 合金熔点分析;

  - 薄膜沉积;

    等等…



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