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PVD400 高真空磁控溅射薄膜沉积系统
- 型号
- PVD400
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深圳市矢量科学仪器有限公司是集半导体仪器装备代理及技术服务的高新技术企业。
致力于提供半导体前道制程工艺装备、后道封装装备、半导体分析测试设备、半导体光电测试仪表及相关仪器装备维护、保养、售后技术支持及实验室整体服务。
公司目前已授实用新型权利 29 项，软件著作权 14 项，是创新型中小企业、科技型中小企业、规模以上工业企业。
详细信息
1.产品概述：
本沉积系统可用于制备光学薄膜、电学薄膜、磁性薄膜、硬质保护薄膜和装饰薄膜等，工艺性能稳定、模块化结构，采用行业的软件控制系统。
2.设备用途：
用于纳米单层及多层功能膜、硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜等新型薄膜材料的制备。可广泛应用于大院校、科研院所的薄膜材料的科研项目。
3.真空室：
真空室结构:方形开门
真空室尺寸:φ400x400x400mm
限真空度:≤6.6E-5Pa
沉积源:永磁靶3套，φ2英寸
样品尺寸，温度:φ4英寸，1片，高800℃
样品台：拥有可旋转或者可移动的样品台，以便均匀的沉积薄膜。
占地面积（长x宽x高）:约1.8米×1.7米×2米
电控描述:全自动采用先进的控制系统，方便用户设置和调整工艺参数，如蒸发温度、沉积时间等。
工艺:片内膜厚均匀性：≤±3%
