$item.Name

首页>半导体行业专用仪器>薄膜生长设备>物理气相沉积设备

DZS500 高真空电子束及热阻蒸发薄膜沉积系统

型号
DZS500
深圳市矢量科学仪器有限公司

中级会员3年 

经销商

该企业相似产品

卷对卷薄膜溅射系统

在线询价

卷对卷薄膜溅射系统

在线询价

部件镀膜设备

在线询价

部件镀膜设备

在线询价

部件镀膜设备

在线询价

部件镀膜设备

在线询价

薄膜沉积PVD设备

在线询价

有机薄膜沉积和金属化系统

在线询价
冷热台,快速退火炉,光刻机,纳米压印、磁控溅射,电子束蒸发

 

 

深圳市矢量科学仪器有限公司是集半导体仪器装备代理及技术服务的高新技术企业。

致力于提供半导体前道制程工艺装备、后道封装装备、半导体分析测试设备、半导体光电测试仪表及相关仪器装备维护、保养、售后技术支持及实验室整体服务。

公司目前已授实用新型权利 29 项,软件著作权 14 项,是创新型中小企业、科技型中小企业、规模以上工业企业。

 

 

 

 

 

 

 

 

详细信息

1. 产品概述:

主要由蒸发真空室、e 型电子枪、热阻蒸发组件、旋转基片加热台、工作气路、抽气系统、真空测量、安装机台及电控系统等部分组成,具备自动控制软件系统。

2. 设备用途/原理

沈阳科仪 DZS500 系统用途广泛。电子束蒸发可以蒸发高熔点材料,比一般电阻加热蒸发热效率高、束流密度大、蒸发速度快,制成的薄膜纯度高、质量好,厚度可以较准确地控制,可以广泛应用于制备高纯薄膜和导电玻璃等各种光学材料薄膜。在科研领域,它常用于材料研究和新型器件的开发;在工业生产中,可用于大规模制造高质量的薄膜产品。例如,在制造液晶显示器的导电薄膜时,能够保证薄膜的导电性和均匀性,提高产品的性能和质量。

3. 特色参数

真空室结构:采用 U 形前开门。

真空室尺寸500x500x600mm。

极限真空度≤6.67e-5Pa。

沉积源4 个 11cc 坩埚。

样品尺寸与温度:可放置 φ4 英寸的 1 片样品,最高温度可达 800℃。

占地面积:约 2.7 米 x1.7 米 x2.1 米。

电控描述:全自动。

工艺:片内膜厚均匀性≤±3%。

特色参数:样品可自转,转速可调。

4. 设备特点

沈阳科仪 DZS500 系统的真空室具有一些显著特点。其极限真空度表现出色,通常能够达到≤6.67×10⁻⁵ Pa(经烘烤除气后)。停泵关机 12 小时后,蒸发室真空度≤5Pa,这表明其真空保持能力较强。真空室的结构通常为 U 形前开门,尺寸一般为 500×500×600mm。这种设计不仅方便操作,还有利于维持真空环境的稳定性。在实际应用中,良好的真空室特点能够为薄膜沉积提供高质量的真空条件,减少杂质和气体对薄膜质量的影响。比如在制备高精度光学薄膜时,稳定的真空环境能够确保薄膜的均匀性和纯度。


相关技术文章

同类产品推荐

相关分类导航

产品参数

企业未开通此功能
详询客服 : 0571-87858618
提示

请选择您要拨打的电话:

当前客户在线交流已关闭
请电话联系他 :