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DZS500 高真空电子束及热阻蒸发薄膜沉积系统
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致力于提供半导体前道制程工艺装备、后道封装装备、半导体分析测试设备、半导体光电测试仪表及相关仪器装备维护、保养、售后技术支持及实验室整体服务。
公司目前已授实用新型权利 29 项,软件著作权 14 项,是创新型中小企业、科技型中小企业、规模以上工业企业。
1. 产品概述:
主要由蒸发真空室、e 型电子枪、热阻蒸发组件、旋转基片加热台、工作气路、抽气系统、真空测量、安装机台及电控系统等部分组成,具备自动控制软件系统。
2. 设备用途/原理:
沈阳科仪 DZS500 系统用途广泛。电子束蒸发可以蒸发高熔点材料,比一般电阻加热蒸发热效率高、束流密度大、蒸发速度快,制成的薄膜纯度高、质量好,厚度可以较准确地控制,可以广泛应用于制备高纯薄膜和导电玻璃等各种光学材料薄膜。在科研领域,它常用于材料研究和新型器件的开发;在工业生产中,可用于大规模制造高质量的薄膜产品。例如,在制造液晶显示器的导电薄膜时,能够保证薄膜的导电性和均匀性,提高产品的性能和质量。
3. 特色参数:
o 真空室结构:采用 U 形前开门。
o 真空室尺寸:500x500x600mm。
o 极限真空度:≤6.67e-5Pa。
o 沉积源:4 个 11cc 坩埚。
o 样品尺寸与温度:可放置 φ4 英寸的 1 片样品,最高温度可达 800℃。
o 占地面积:约 2.7 米 x1.7 米 x2.1 米。
o 电控描述:全自动。
o 工艺:片内膜厚均匀性≤±3%。
o 特色参数:样品可自转,转速可调。
4. 设备特点
沈阳科仪 DZS500 系统的真空室具有一些显著特点。其极限真空度表现出色,通常能够达到≤6.67×10⁻⁵ Pa(经烘烤除气后)。停泵关机 12 小时后,蒸发室真空度≤5Pa,这表明其真空保持能力较强。真空室的结构通常为 U 形前开门,尺寸一般为 500×500×600mm。这种设计不仅方便操作,还有利于维持真空环境的稳定性。在实际应用中,良好的真空室特点能够为薄膜沉积提供高质量的真空条件,减少杂质和气体对薄膜质量的影响。比如在制备高精度光学薄膜时,稳定的真空环境能够确保薄膜的均匀性和纯度。