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KS-CM300/200 单片式化学清洗机
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深圳市矢量科学仪器有限公司是集半导体仪器装备代理及技术服务的高新技术企业。
致力于提供半导体前道制程工艺装备、后道封装装备、半导体分析测试设备、半导体光电测试仪表及相关仪器装备维护、保养、售后技术支持及实验室整体服务。
公司目前已授实用新型权利 29 项,软件著作权 14 项,是创新型中小企业、科技型中小企业、规模以上工业企业。
1. 产品概述
KS-CM300/200单片式化学清洗机是一款高度专业化的清洗设备,广泛应用于各种半导体制造过程中的清洗工艺。其设计使其能够高效地处理沉积清洗、蚀刻后清洗、离子注入后清洗以及CMP(化学机械抛光)后清洗等多个步骤,涵盖了前段工艺(FEOL)和后段工艺(BEOL)的清洗需求。
该设备特别适配高温SPM(硫酸-过氧化氢混合液)工艺,具备难以匹敌的工艺覆盖率,达到80%以上。这一特性确保了无论是在高温条件下,还是在苛刻的化学环境中,清洗效果依然优异,从而极大地增强了晶圆的洁净度,确保后续工艺的顺利进行。
KS-CM300/200还搭载了公司独立开发的新一代高清洗效率低损伤射流喷嘴。这种喷嘴经过精心设计,能够在提供高洗净能力的同时,减少对晶圆表面的潜在损伤,确保即便是最为脆弱的薄膜结构或精细图形,也能在清洗过程中得到充分保护。由此,洁净度达到了半导体制造业先进制程所需的严格标准,符合芯片生产的需求。
2. 产品优势:
可配置8腔体、12腔体和16腔体,单Chamber占地面积更小
具有双面清洗能力,可配置多种化学液:
DHF,SC1,SC2,DIO3,H2SO4,IPA,DSP,ST250,EKC等
自主国产化设备,搭配芯源高速自研机械手
SC1/SC2在线及时混合DMS,可使用多种浓度配比
液体流量一键设定,闭环反馈自动调节
Chamber自动清洗,减少PM时间
3. 应用域:
RCA标准清洗
气相沉积清洗
CMP、TSV后清洗
刻蚀后清洗
EPI、ALD清洗
用于聚合物、薄膜材料的去除