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EC400 高真空蒸发镀膜设备
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公司目前已授实用新型权利 29 项,软件著作权 14 项,是创新型中小企业、科技型中小企业、规模以上工业企业。
1.设备概述
EC400高真空蒸发镀膜设备是一台高精度的蒸发镀膜设备,主要用于在物体表面形成一层均匀的薄膜,以改变物体的性质和外观。该设备利用高真空环境下的物理过程,将金属材料蒸发成气体,并在物体表面沉积形成薄膜。
2.主要组成部分
真空室:用于提供高真空环境,确保蒸发源和物体表面之间没有气体分子的干扰。
蒸发源:内置金属材料(如铜、铝、银、金等),通过加热使其蒸发成气体。
膜厚监测仪:用于实时监测薄膜的厚度,确保薄膜质量符合要求。
样品台:用于放置待处理的物体,确保其在镀膜过程中的稳定性和位置准确性。
真空获得系统:包括真空泵等组件,用于将真空室抽成高真空状态。
真空测量系统:用于测量真空室内的气体压力等参数,确保设备的安全运行。
气路系统:用于向真空室内通入工艺气体,如氮气等,以调节镀膜环境。
PLC+触摸屏自动控制系统:实现设备的自动化控制和操作,提高工作效率和镀膜质量。
3.技术特点
高真空环境:确保蒸发源和物体表面之间没有气体分子的干扰,提高镀膜质量。
高精度控制:通过PLC+触摸屏自动控制系统,实现蒸发源加热温度、沉积时间等参数的精确控制。
多功能性:可制备多种类型的薄膜,如金属薄膜、氧化物薄膜、氮化物薄膜等。
结构紧凑:设备主机与控制一体化设计,操控方便;结构紧凑,占地面积小。
4.应用域
EC400高真空蒸发镀膜设备在多个域具有广泛的应用,包括但不限于:
纳米薄膜制备:用于开发纳米单层、多层及复合膜层等。
材料科学:制备金属膜、合金膜、半导体膜、陶瓷膜及介质膜等,如银、铝、铜、C60、BCP等材料的薄膜。
高校与科研院所:用于教学、科研实验及新产品开发等。
工业生产:在钙钛矿太阳能电池、OLED、OPV太阳能电池等行业中,用于制备高质量的薄膜材料。