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PLD450 高真空脉冲激光溅射薄膜沉积系统
- 型号
- PLD450
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深圳市矢量科学仪器有限公司是集半导体仪器装备代理及技术服务的高新技术企业。
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公司目前已授实用新型权利 29 项，软件著作权 14 项，是创新型中小企业、科技型中小企业、规模以上工业企业。
详细信息
1.产品概述：
系统主要由真空室、旋转靶台、基片加热台、工作气路、抽气系统、安装机台、真空测量及电控系统等部分组成。
2.设备用途：
脉冲激光沉积(Pulsed Laser DeposiTION，简称PLD)是新近发展起来的一项技术，继20世纪80年代末成功地制备出高临界温度的超导薄膜之后，它的优点和潜力逐渐被人们认识和重视。该项技术在生成复杂的化合物薄膜方面得到了非常好的结果。与常规的沉积技术相比，脉冲激光沉积的过程被认为是“化学计量”的过程，因为它是将靶的成分转换成沉积薄膜，非常适合于沉积氧化物之类的复杂结构材料。当脉冲激光制备技术在难熔材料及多组分材料(如化合物半导体、电子陶瓷、超导材料)的精密薄膜，显示出了诱人的应用景。
3.真空室结构:
球形开门
真空室尺寸:φ450mm
限真空度:≤6.67E-6Pa
沉积源:φ2英寸靶材，4个
样品尺寸，温度:φ2英寸，1片，高800℃
占地面积（长x宽x高）:约1.8米x0.97米x1.9米
电控描述:全自动
