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Wintech CCP-200 微芸电容耦合等离子体刻蚀机
- 型号
- Wintech CCP-200
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ICP干法刻蚀机，CCP干法刻蚀机，400平台刻蚀系统，600平台刻蚀系统，Manual Load系统
公司创始人与核心团队成员均源自国内头部半导体设备制造供应商刻蚀部门研发团队。自2008年起，他们投身于16nm刻蚀设备的研发工作，并成功将其推向市场。随后，作为关键成员，再度参与了12寸14nm刻蚀设备的研发并实现量产。
在市场需求的推动下，公司组建了一支由半导体设备制造领域拥有丰富经验的技术人物及设计精英构成的骨干团队，利用在半导体设备领域的丰富经验和深厚底蕴，首先聚焦8英寸ICP、CCP、TSV设备，致力于在SiC、IGBT、介质材料等关键领域内，形成全系列更可靠、更贴合用户需求的高性能产品。
详细信息
上海微芸半导体科技有限公司生产的电感耦合等离子体干法刻蚀机（ICP）是一款针对工艺节点与生产线各种关键应用的大规模量产型设备，其性能亦可在各大高校及科研机构展示其科研属性。
设备8英寸向下兼容，适用于各种刻蚀需求，具备优异的刻蚀均匀性和快速刻蚀速率，确保了高效、精确的刻蚀工艺结果。同时，高选择比和高各向异性使刻蚀过程更为精准，减少损伤。专业的机械设计与优化的操作软件使该设备操作简便、安全，且工艺稳定、重复性、均匀性佳。此外，高断面轮廓可控性保证了刻蚀表面的平整光滑。该系统可以根据客户要求选择气体种类进行配置。
