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实验室光刻机

型号
江苏雷博科学仪器有限公司

高级会员4年 

生产厂家

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狭缝涂布设备

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匀胶机,烤胶机,涂膜机,狭缝涂布机,紫外清洗机,电解双喷仪

       江苏雷博科学仪器有限公司2013年9月成立于江苏江阴,是一家初期以高档专业的实验室仪器开发为目标的海归创业企业。2020年8月,江苏雷博科仪通过资源整合,将雷博科仪中发展起来的的工业半导体设备业务分拆出来成立了江苏雷博微电子设备有限公司。两家公司使用同一品牌 ,独立经营不同系列产品。公司主营高档实验室仪器及半导体设备开发业务。公司技术力量雄厚,人才济济,凭借雄厚的技术实力不断进行新产品开发和创新实现,在纳米薄膜制备类仪器领域取得了显著的市场地位。公司生产的高精度高可靠性匀胶机荣获江苏省高新技术产品,是国内匀胶机全系列、多功能、定制化服务的供应商。
       公司生产和销售不同领域的高档科研仪器和工业半导体设备:Schwan technology®是我们的纳米薄膜制备类设备品牌,主要有匀胶机、显影机、烤胶机、提拉机、喷胶机、涂膜机、狭缝涂布机等相关产品;LEBO science®是我们的工业半导体设备品牌,主要有匀胶机、显影机、蚀刻机、去胶机、清洗机等独立柜式机台及工业全自动机台。
       公司产品被广泛应用于纳米薄膜制备需求的钙钛矿薄膜太阳能、有机光电、MEMS、声表、光通讯、化合物半导体及先进封装等领域,具有核心技术可靠、高性价比、定制化服务的竞争优势。 

       公司目前团队人数80多人,业绩和规模处于快速扩展期,2013年起年销售额一直保持快速增长,目前正准备二轮融资扩产。公司生产厂房设有装配洁净车间及黄光试验区,其中生产区域约1500平方米,办公及仓储区域约1000平方米。

详细信息

  实验室光刻机产品参数 :
 
  1.曝光面积:160mm*160mm
 
  2.曝光分辨率:接触式曝光0.8um-1um
 
  3.对准精度:±1-1.5um
 
  4.光源强度:35mW/cm2
 
  5.UV光源:进口LED模块
 
  6.曝光中心波长:365nm
 
  7.光源寿命:1万小时,光源平行性:≤2°
 
  8.曝光分辨率:接触式曝光0.8um-1um
 
  9.照度不均匀性:≤3%
 
  10.曝光设定:定时
 
  11.可执行曝光模式:真空接触、硬接触、压力接触、接近式
 
  12.间隙设定方式:数字设定曝光间隙0-1200um
 
  13.可调,可自动分离和消除间隙
 
  14.样片、掩模版相对移动范围:X:±5mm,Y:±5mm,0=±6°
 
  15.掩模版找平方式:球气浮自动找平
 
  16.可支持掩模版尺寸:3"x3"、4"x4"、5"x5"、7"x7"各一件
 
  17.标配承片台:2英寸、3英寸、4英寸、6英寸
 
  18.标准配件可兼容样片厚度:0.1-5mm,其他尺寸可定制
 
  19.对准系统:光学+CCD,显微倍数:放大倍率:150倍-720倍可调
 
  20.双物镜可调距离范围:30mm-120mm

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