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台式光刻机

型号
江苏雷博科学仪器有限公司

高级会员4年 

生产厂家

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       江苏雷博科学仪器有限公司2013年9月成立于江苏江阴,是一家初期以高档专业的实验室仪器开发为目标的海归创业企业。2020年8月,江苏雷博科仪通过资源整合,将雷博科仪中发展起来的的工业半导体设备业务分拆出来成立了江苏雷博微电子设备有限公司。两家公司使用同一品牌 ,独立经营不同系列产品。公司主营高档实验室仪器及半导体设备开发业务。公司技术力量雄厚,人才济济,凭借雄厚的技术实力不断进行新产品开发和创新实现,在纳米薄膜制备类仪器领域取得了显著的市场地位。公司生产的高精度高可靠性匀胶机荣获江苏省高新技术产品,是国内匀胶机全系列、多功能、定制化服务的供应商。
       公司生产和销售不同领域的高档科研仪器和工业半导体设备:Schwan technology®是我们的纳米薄膜制备类设备品牌,主要有匀胶机、显影机、烤胶机、提拉机、喷胶机、涂膜机、狭缝涂布机等相关产品;LEBO science®是我们的工业半导体设备品牌,主要有匀胶机、显影机、蚀刻机、去胶机、清洗机等独立柜式机台及工业全自动机台。
       公司产品被广泛应用于纳米薄膜制备需求的钙钛矿薄膜太阳能、有机光电、MEMS、声表、光通讯、化合物半导体及先进封装等领域,具有核心技术可靠、高性价比、定制化服务的竞争优势。 

       公司目前团队人数80多人,业绩和规模处于快速扩展期,2013年起年销售额一直保持快速增长,目前正准备二轮融资扩产。公司生产厂房设有装配洁净车间及黄光试验区,其中生产区域约1500平方米,办公及仓储区域约1000平方米。

详细信息

  台式光刻机参数:
 
  1.最大曝光面积:160mm*160mm
 
  ⒉.曝光分辨率:1u m(胶厚≤0.5um的正胶)
 
  3.对准精度:± 1um(标准晶圆抛光片)
 
  4.光源强度:35mW/cm2
 
  5.曝光波长:LED光源(进口灯珠,寿命>1万小时)
 
  6.曝光方式:定时(倒计时方式)
 
  7.掩模样片相对运动范围:X:优于±5mm;
 
  8.Y:优于±5mm;0:优于±6°
 
  9.掩模尺寸:7英寸,样片规格:6英寸(晶圆片)
 
  10.数字设定对准间隙和曝光间隙
 
  11.掩模样片分离间隙:6 =O-500um连续可调
 
  12.对准方式:自动对准,可根据客户需求,增加对准标记的类型,累计不超过4组
 
  13.自动输片:机械手自动输片(专用样片机械手臂及片叉),含预对准定位功能
 
  14.显微扫描范围:Y:± 40mm(数字设定)
 
  15.具备正压气浮曝光、硬接触曝光、压力接触曝光,以及接近式曝光四种功能CCD+远心镜头+显示器对准,光学合像
 
  16.调平接触压力通过传感器保证重复
 
  17.双物镜可调距离范围:30mm-130mm
 

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