- ¥8000001台起订
起订量：
UV-Writer 无掩膜光刻机, 激光直写系统
- 型号
- UV-Writer
该企业相似产品
科睿设备有限公司(Cross-Tech Equipment Co.,Ltd )为多家国外高科技仪器厂家在中国地区的代理。科睿公司一贯秉承『诚信』、『品质』、『服务』、『创新』的企业文化，为广大中国用户提供仪器、设备，周到的技术、服务和*的整体解决方案。在科技日新月异、国力飞速发展的中国，纳米科学研究、薄膜材料(包括半导体)生长和表征、表面材料物性分析、生物药物开发、有机高分子合成等等领域，都需要与欧美发达国家*接轨的仪器设备平台来实现。科睿设备有限公司有幸成长在这个火热的年代，我们愿意化为一座桥梁，见证中国科技水平的提升，与中国科技共同飞速成长。
科睿设备有限公司(Cross-Tech Equipment Co.,Ltd)总部设在中国香港，在中国上海设立了分公司，在国内多个城市设立了办事处或维修站，旨在为客户提供*的产品和服务。2010年，科睿设备有限公司在上海设立备品仓库及维修中心，同时提供在大陆的各项技术服务和后期的维修保障服务，我们拥有专业的应用维修人员，并且都曾到国外厂家进行了专门的培训。上海配备了多种维修部件，能使我们的服务更加快捷和方便。我们承诺24小时电话响应，72小时内赶到现场维修。以利于更好、更快的为中国大陆服务！
因为信任,所以理解.我们理解用户的困难和需求。我们已经为国内众多科研院所和大学根据用户的要求配制和提供了上百套系统，主要用户包括：中科院物理所，中科院半导体所，中科院大连化学物理研究所，国家纳米中心，上海纳米中心，北京大学，清华大学，中国科技大学，南京大学，复旦大学，上海交通大学，华东理工大学，浙江大学，中山大学，西安交通大学，四川大学，中国工程物理研究院，香港大学，香港城市大学，香港中文大学，香港科技大学等。
详细信息
无掩膜光刻机, 激光直写系统
直接激光直写光刻
直接激光光刻技术通过消除光掩模生产对外部供应商的依赖，大大降低了微流体、微电子、微机械和材料科学研究等领域的成本和执行时间。
无掩膜光刻机, 激光直写系统，其控制软件在PC上提供。它允许您从GDSII文件的单元格或直接从PNG图像导入要写入的设计。
一切都是通过一个用户友好的图形界面来完成的，它允许您在执行之前预览要编写的设计。
除了对每个设计应用旋转、反射、反转或比例调整等变换外，还可以在单个过程中组合多个设计。
在确定了设计方案后，采用了所包含的工作台控制模块和共焦显微镜。
使用它们，您可以设置基片上工艺的原点位置和感光表面上的焦平面。
接下来执行该过程并将设计写在表面上。
技术指标：
XY工作台
典型写入速度：100-120 mm/s
最大面积：100x92 mm^2
最小面积：没有最小面积
单向定位台阶：X=0.16µm，Y=1.00µm
慢速X轴上的机械噪声：<1µm
快速Y轴上的机械噪声：<1µm
多层对准精度：5-10µm（可选旋转台，便于对准）
实际最小特征尺寸：6-15µm，取决于特征（示例见下图）
软件
支持的格式：PNG、GDSII
在软件转换：，旋转、反射、反转、重缩放、添加边框
-可以在一个进程中编写来自不同文件的多个设计
-通过3点线性或4点双线性聚焦测量进行倾斜/翘曲基板补偿
-全床曲率补偿的网格型标定
光学
-激光波长：405nm（可选375nm）
-激光聚焦、对准和检测用共焦显微镜
-二次独立黄色照明
-激光光斑尺寸可以使用工业标准显微镜物镜改变
精度：
-精细：0.8µm
-介质：2µm
-粗粒：5µm
大面积包含目标的有效书写速度（单向书写）：
-精细：1.7 mm^2/min
-中等：4.25 mm^2/min
-粗糙度：10.6 mm^2/min
在双向写入模式下速度加倍。
