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Plasma-Preen II 862 微波等离子清洗机

型号
Plasma-Preen II 862
迈可诺技术有限公司

中级会员11年 

代理商

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匀胶机,光刻机,显影机,等离子清洗机,紫外臭氧清洗机,紫外固化箱,压片机,等离子去胶机,刻蚀机,加热板

半导体化工领域专业实验设备供应商:迈可诺是一家富有创新精神的高科技公司,专业提供光电半导体化工实验室所需设备耗材的全套解决方案提供商,迈可诺从事开发、设计、生产并营销质量可靠的、安全易用的技术产品及优质专业的服务,帮助我们的客户和合作伙伴取得成功。我们成功的基础是帮助客户做出更好的选择和决定,尊重他们的决定,并协助他们实现高效率的科研成果,追求丰富有意义的生活。



详细信息

PPC系列等离子清洗机是Mycro美国*的等离子清洗机,这系列的等离子清洗机,作为蚀刻系统,该系列等离子清洗机目前有三种类型,都集成了相应的的数字控制功能,并且都有一个额外的模拟电源控制功能从而提供了一个更广的等离子功率范围。PPC的第二代产品提供水冷却装置,可以有效吸收等处理气体等离子化所产生的热量。

特别是对于那些对热非常敏感的元件清洗而言,PPC等离子清洗机是一款不可替待的扥离子清洗清洗设备。

等离子清洗视频欣赏:http://www.mycrohk.com/chinese/shownews.asp?news_id=55

PPC等离子清洗机又称等离子表面处理仪,等离子清洗器、等离子清洗仪、电浆清洗机, PPC等离子清洗/蚀刻系统是一台台式微波等离子清洗机设备。

 

PPC等离子清洗机/蚀刻机的四种推荐应用:

 

*种:不带离子收集器的氩气等离子清洗

  • 基片的环氧粘合剂
  • 打线垫
  • Pd-Ag裸芯片垫
  • 镀金部件
  • 预焊料
  • 环氧树脂去除
  • 焊接预处理
  • 光刻胶去除
  • 氧化金属表面
  • 金线或铝线
  • 去除某些金属氧化物

第二种:不带离子收集器的氧气等离子清洗

  • 光刻胶去除
  • 陶瓷基片清洗
  • 故障模型分析中去除塑料密封剂
  • 玻璃部件
  • 镀金部件
  • 技术氧化物部件
  • 砷化镓
  • 碳氟化合物和其它塑料粘合预处理
  • 磷化铟

第三种:带离子收集器的氩气等离子清洗

  • 带敏感芯片的器件
  • 激光二极管的切面
  • 带助焊剂的陶瓷制品
  • 带助焊剂的PC板

第四种:带离子收集器的氧气等离子清洗

  • 提供下游等离子蚀刻器的功能
  • 带光刻机的敏感部件

 

PLASMA-PREEN等离子清洗机/蚀刻机相比其他等离子清洗机的特点:

  • 全新的设计——使用微波炉产生等离子清洗介质
  • 可安全去除许多种类的部件和基片上的有机及多种无机污染物
  • 保持低温的制程(25­-200°C之间 可控)
  • 在等离子体的功能和密度方面,可产生比同等价位设备更高的等离子体功率和密度——可以达到700瓦
  • 不产生废物,消除了废物处理的麻烦——这点跟溶剂清洗*不同
  • 易于调节功率等级,可以连续或者非连续调节
  • 易于使用和维护

PLASMA-PREEN 等离子清洗/蚀刻系统共有三款不同机型:

1.     PLASMA-PREEN I等离子体清洗机

反应舱: 圆筒形

反应舱口径: 4.1”

反应舱深: 6.0”

反应舱材质: 派热克斯玻璃

可选配石英玻璃)

 

由于等离子化过程会伴随着热量的释放,当清洗的部件对热比较敏感时,就必须有冷却系统,PLASMA-PREEN Ⅱ就是因此而设计的。对于不同尺寸,共有两种型号可以选择:862和973。

2.     PLASMA-PREEN 862等离子体清洗机

反应舱: 方形                        

尺寸: 8”(L) x 6”(W) x 2”(H)         

冷却面: 8” x 6”                      

反应舱材质: 派热克斯玻璃 & 铝材        

外部尺寸: 28”(W) x 12”(H) x 13”(D)

装运重量: 65 pounds(约29.5公斤)

3.     PLASMA-PREEN 973等离子体清洗机

反应舱: 方形                        

尺寸: 9”(L) x 7”(W) x 3”(H)         

冷却面: 9” x 7”                      

反应舱材质: 派热克斯玻璃 & 铝材        

外部尺寸: 28”(W) x 12”(H) x 13”(D)

装运重量: 80 pounds(约38.5公斤)

 

 

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