WS-1000M Laurell-WS半导体湿法刻蚀系列，全白色聚丙烯构造，可内置任何Laurell公司的旋涂机及显影机，排放简便的入氮口和DI喷头，如果需要单工的系统，可选择WS-1000湿法刻蚀设备，WS-1000系列旋转处理湿法设备可以被配置成测试模块构造，安装简便，易于拆卸，更便于操作者控制。

一、半导体湿法刻蚀设备功能：
● 涂敷Coating
● 刻蚀Etching
● 显影Developing - Aqueous / Solvent
● 清洗Cleaning-Aqueous / Solvent
● 可选配, Sulfuric硫化物 / Peroxide双氧水，溶液处理(insitu mixing)
● 可选配, HBr溶液处理
● 带温控的显影功能
● 冲洗甩干

二、半导体湿法刻蚀设备特点：
● 全PP材质构造
● 可集成Laurell匀胶旋涂系统
● 有排孔的湿站操作台 (易清洁)
● 特殊设计的湿站压力系统Wet plenum
● 带流量计的排液管道
● 各类组件的隔离设计（散热原件，泵浦和压力容器等）

三、半导体湿法刻蚀设备材料选择：
可以根据应用选择更高级的材料；
● WS-1000-CP5 符合SEMI S93标准应用在消防安全和洁净空间等领域。CP5符合UL94 V-O 火灾分类标准。它具有优良的平衡的物理性能，耐化学药品性和耐火性。

● WS-1000-CP7-D的材料阻燃特性符合严格的FMRC 4910测试标准，满足多方面条件下的难燃性，自熄特点和*燃烧。这种*材料也达到或超过产生低烟和小毒副产品的检测标准。