其他品牌 品牌
代理商厂商性质
北京市所在地
湿法显影掩膜版清洗系统
手动型SCS112
SCS112型是一款高效率手动型的系统,专门设计用于在划片或划片后清洗晶片。可通过施加高压DI水射流或雾化喷嘴来清洁安装在环(抓环)或胶片框架上的晶圆,然后使用高转速,氮气辅助或红外加热灯进行快速干燥。该系统大可处理8英寸晶圆。
功能:
选项:
产品参数:
手动型SCSe124
SCSe124型是用于光掩模,晶圆和基材的亚微米级清洁的理想解决方案。该系统非常可靠且具有成本效益,它经过验证,拥有各种清洁技术。SCSe124可以配置几种不同的清洁选项,包括高压DI水,雾状喷嘴,刷子,Megasonic喷嘴等等。快速有效的干燥技术是结合了可变转速和可选项加热DI水,氮气辅助或加热灯。SCSe124具有微处理控制器,该控制器可调整过程参数,并储存多达10个程序。
功能:
产品参数:
手动型SCSe126
SCSe126型是用于光掩模,晶圆和基材的亚微米级清洁的理想解决方案。该系统非常可靠且具有成本效益,它经过验证,拥有各种清洁技术。SCSe126可以配置几种不同的清洁选项,包括高压DI水,雾状喷嘴,刷子,Megasonic喷嘴等等。快速有效的干燥技术是结合了可变转速和可选项加热DI水,氮气辅助或加热灯。SCSe126具有微处理控制器,该控制器可调整过程参数,并储存多达10个程序。
功能:
• 径向排气腔,可实现大层流。
• 独立式聚丙烯腔室。
• 微处理器可控制10个程序段。
• 内置安全联锁。
• 按钮盖启动 打开/关闭。
• 触摸屏图形用户界面(GUI),易于编程和安全锁定以及屏幕错误报告。
• 多可使用4个机械臂。
产品参数: