其他品牌 品牌
代理商厂商性质
北京市所在地
简介:这款蚀刻和清洁系统专为满足当今晶圆、光掩模和基板的前沿应用的特殊工艺需求而设计。这款高效的蚀刻和清洁系统CESx124、126、128或133是理想选择,可满足不同大小尺寸的晶片、光掩模和衬底,不论是从小直径还是非常大直径。CESx可以配置多种工艺分配选项,Megasonic喷嘴对DI H20或化学药品的处理分配选项;用于化学制剂的低压喷嘴;化学加热器和DI-H20;用于表面搅拌以加快反应的刷子,和/或DI H20等。
可编程抛物线机械臂运动有助于确保均匀蚀刻。快速有效的干燥技术结合了可变的旋转速度;可选加热DI-H20和氮气辅助。该系统非常安全,在接近基底之前,可以通过“漂洗至pH” 尽量减少对化学物质的接触。
特点:
技术参数:
主营产品:
Laurell匀胶机
Harrick等离子清洗机
Thetametrisis膜厚仪
Microxact探针台
ALD原子层沉积系统
TRION反应离子刻蚀机
Uvitron紫外固化箱
NXQ紫外曝光光刻机
Novascan紫外臭氧清洗机
Nilt纳米压印机
Wenesco/EMS/Unitemp/NDA加热板
Annealsys高温退火炉
Kinematic程序剪切仪
Laurell EDC系统,湿站系统
Wabash/Carver自动压片机