Compact ALD台式原子层沉积系统
该ALD拥有达到或超过市场上其他品牌的功能,同时易于使用和维护 - 成本低于当今市场上的价格Q-One单离子注入聚焦离子束系统
量子和纳米级材料工程的先进平台TOF-SIMS飞行时间二次离子质谱
先进的动态TOF-SIMS系统,它使用直流主束的飞行时间分析仪,创建了成像质谱的新范式。直流一次离子束的使用允许快速成像和连续数据采集(即没有单独的蚀刻周期),同时提供高空间和质量分辨率。UV-Writer无掩膜光刻机, 激光直写系统
是一个高价值的直写激光光刻机系统,面向大学和研究机构寻求扩大他们的能力。半自动划片机/切片机(6英寸)
适用于 6 英寸晶圆– 6 英寸硅晶圆SD220,SD240半自动划片机/切片机 (8英寸,12英寸)
半自动划片机/切片机 (8英寸,12英寸)SD440, SD450半自动划片机/切片机(12英寸,16英寸)
双刀片半自动划片机/切片机(12英寸,16英寸)SD620, SD640全自动划片机/切片机(6-8英寸,12英寸)
全自动划片机/切片机(6-8英寸,12英寸)Partector TEM纳米颗粒采样器(用于电镜观测)
partector TEM采样器是简单与强大之间的结合: 您可以将其用作简单的调查仪器来快速识别纳米颗粒 工作场所的来源。您还可以使用它直接根据标准对颗粒进行采样 透射电子显微镜(TEM)网格。TEM 是强大的分析功能 单颗粒分析技术。部分 TEM 允许您 使用单一仪器全面评估工作场所安全。 partector TEM采样器是可以确定覆盖范围的纳米颗粒采样器 在线样品!! 参考价¥150000Full Deposition PSL Wafer校准晶圆标准品
污染晶圆标准品、校准晶圆标准品和二氧化硅颗粒晶圆标准品使用颗粒沉积系统生产,该系统将首先使用差分迁移率分析仪(DMA)分析PSL尺寸峰或二氧化硅尺寸峰。DMA是一种高精度颗粒扫描工具,结合凝聚态粒子计数器和计算机控制,基于NIST可追溯粒径校准分离出高精度粒径峰。一旦尺寸峰得到验证,粒度流就被引导到主硅、晶圆标准表面。颗粒在沉积在晶圆表面上之前被计数,通常是在晶圆上全部沉积。 参考价¥100000SNR负性光刻胶 (SU-8)
SNR负性光刻胶,针对微机械加工微电子应用,高对比度,环氧树脂类负性光刻胶。SF-300X快速动力学停流光谱仪
SF-300X是用于双混合和平衡滴定实验的同类最佳停流光谱仪: