微波等离子清洗去胶
AL76C立式微波等离子去胶清洗机概述：AL76C为一体式紧凑型的等离子系统，真空泵集成于立柜内。适用于批量生产，也可以i满足研发及实验室应用。并且，此系统可以满足360度的芯片封装需要、工业、医药等领域。AL76C系统是一款创新型的通用设备，可选配旋转转盘，及ECR（电子回旋共振）装置。
AL76C立式微波等离子去胶清洗机技术参数：
- 腔体:铝
- 容积:76公升
- 尺寸:宽度400毫米×深度490毫米×高度400毫米
- 腔室门:带观察窗口的铰链式门
- 微波源：2.45GHz，可调50-1200W
- 气体进气:3路数字显示的质量流量器控制
- 真空计: Pirani,1-1000Pa
- 真空系统：DN 63 ISO-KF
- 真空阀：电动气动阀
- 设备尺寸：1050毫米x800毫米x2020毫米
系统控制：
- PC, Windows, RS 232, USB, Ethernet (也适用于远程控制)
- 10.4”触摸屏、图形用户界面
- Windows Office兼容
- 存储处理数据和错误信息，处理数据输出
- 工艺参数图形曲线的 监测
- 自动或手动操作
选配：
- 真空泵 ： 真空泵组，如，抽吸能力大250m3/h
- 气路：额外的数字显示质量流量控制器（可支持到4路）
- 旋转台：铝，直径350mm,速度可调
- ECR(电子回旋共振)：铝、支架配置永磁体
